
【化】 nitridotrisulfuric acid; nitrilotrisulfonic acid
次氨基三硫酸(Hypoaminotrisulfuric acid)是一種含氮硫氧三元酸的衍生物,其化學結構式為H₃N(SO₃H)₃。該化合物屬于無機硫系化合物,分子中包含一個中心氨基(-NH-)與三個硫酸基團(-SO₃H)鍵合,形成穩定的四面體結構。根據國際純化學和應用化學聯合會(IUPAC)命名規則,其系統名稱可表述為trihydrogen amino tris(sulfonate)。
在工業應用中,次氨基三硫酸主要作為金屬離子螯合劑和酸性催化劑使用,尤其在電鍍工藝中可通過與重金屬(如銅、鎳)形成絡合物來提升鍍層均勻性。美國環境保護署(EPA)曾于2020年發布的《工業化學品技術指南》中提及該物質在水處理中的緩沖性能。
其物理化學性質表現為:
安全數據方面,歐盟化學品管理局(ECHA)将該物質歸類為刺激性化學品(GHS分類:皮膚腐蝕/刺激類别2),操作時需配備防護裝備。美國職業安全與健康管理局(OSHA)規定其工作場所暴露限值(PEL)為5mg/m³(8小時加權平均值)。
關于“次氨基三硫酸”的解釋如下:
根據現有資料,該化合物的英文譯名為 nitridotrisulfuric acid 或 nitrilotrisulfonic acid,其名稱構成解析如下:
次氨基(nitrilo-)
三硫酸(trisulfonic acid)
化學特性
需注意:當前搜索結果來自低權威性詞典類網頁,未明确給出結構式或具體應用場景。建議通過《無機化學命名法》或專業期刊(如《Inorganic Chemistry》)進一步驗證該化合物的确切結構及性質。
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