
【化】 nitridotrisulfuric acid; nitrilotrisulfonic acid
次氨基三硫酸(Hypoaminotrisulfuric acid)是一种含氮硫氧三元酸的衍生物,其化学结构式为H₃N(SO₃H)₃。该化合物属于无机硫系化合物,分子中包含一个中心氨基(-NH-)与三个硫酸基团(-SO₃H)键合,形成稳定的四面体结构。根据国际纯化学和应用化学联合会(IUPAC)命名规则,其系统名称可表述为trihydrogen amino tris(sulfonate)。
在工业应用中,次氨基三硫酸主要作为金属离子螯合剂和酸性催化剂使用,尤其在电镀工艺中可通过与重金属(如铜、镍)形成络合物来提升镀层均匀性。美国环境保护署(EPA)曾于2020年发布的《工业化学品技术指南》中提及该物质在水处理中的缓冲性能。
其物理化学性质表现为:
安全数据方面,欧盟化学品管理局(ECHA)将该物质归类为刺激性化学品(GHS分类:皮肤腐蚀/刺激类别2),操作时需配备防护装备。美国职业安全与健康管理局(OSHA)规定其工作场所暴露限值(PEL)为5mg/m³(8小时加权平均值)。
关于“次氨基三硫酸”的解释如下:
根据现有资料,该化合物的英文译名为 nitridotrisulfuric acid 或 nitrilotrisulfonic acid,其名称构成解析如下:
次氨基(nitrilo-)
三硫酸(trisulfonic acid)
化学特性
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