矽擴散晶膜凸型電晶體英文解釋翻譯、矽擴散晶膜凸型電晶體的近義詞、反義詞、例句
英語翻譯:
【電】 silicon ifffused epitaxial mesa transistor
分詞翻譯:
矽的英語翻譯:
silicon
【醫】 Si; silicium; silicon
擴散的英語翻譯:
diffuse; pervasion; proliferate; spread
【計】 scattering
【化】 scatter
【醫】 diffuse; diffusion; extensioin; generalization; generalize; irradiation
晶膜的英語翻譯:
【電】 epitaxial
凸型電晶體的英語翻譯:
【電】 mesa transistor
專業解析
矽擴散晶膜凸型電晶體(Silicon Diffused Mesa Transistor)是一種早期重要的半導體器件,其名稱可拆解并從漢英詞典角度解釋如下:
-
矽 (Silicon):
- 指制造該晶體管所用的基礎半導體材料。矽因其良好的半導體特性(如合適的帶隙、儲量豐富、易于提純和形成穩定的氧化物)成為晶體管和集成電路的主要材料。
-
擴散 (Diffused):
- 指該晶體管的核心制造工藝——擴散摻雜。在此工藝中,将矽晶圓置于高溫環境中,并引入特定的雜質原子(如硼或磷)。這些雜質原子在高溫下擴散進入矽晶圓表層,改變其電導類型(形成P型或N型區域),從而在矽中精确構建出晶體管所需的PN結(如發射結和集電結)。這是早期雙極結型晶體管(BJT)制造的關鍵步驟。
-
晶膜 (Crystal Film / Epitaxial Layer - 此處更傾向指晶體本身或晶圓):
- 此處的“晶膜”并非現代半導體工藝中常指的獨立“薄膜”。在早期晶體管語境下,它更可能指代單晶矽基片或晶圓本身,即進行擴散工藝的基底材料。它強調晶體結構的完整性對器件性能至關重要。有時也可能指代在基片上生長的外延層(Epitaxial Layer),但“擴散晶膜”組合更強調在單晶矽基體上進行擴散。
-
凸型 (Mesa):
- 指該晶體管的物理結構形狀。“Mesa”原意為“台地”或“平頂山”,形象地描述了這種晶體管的幾何特征。在制造過程中,在完成擴散形成PN結後,通過選擇性蝕刻(通常是化學蝕刻)去除晶體管區域周圍的部分矽材料,使得包含PN結的有源器件區域像一個個凸起的平台(台面)一樣孤立在矽片上。這種結構有助于減小結電容、提高頻率性能,并便于後續的電極連接和封裝。這是區别于“平面型”晶體管的關鍵結構特征。
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電晶體 (Transistor):
- 即晶體管的通用中文譯名。它是一種利用半導體材料特性制成的三端(基極、發射極、集電極)有源電子器件,具有信號放大和開關功能,是現代電子學的基石。此處特指雙極結型晶體管。
綜合解釋:
“矽擴散晶膜凸型電晶體”指的是一種采用擴散摻雜工藝在單晶矽襯底上制造、具有台面(Mesa)幾何結構特征的雙極結型晶體管。其制造核心是高溫擴散雜質以形成PN結,并通過台面蝕刻工藝定義器件的有源區域和實現電學隔離。這種結構在晶體管發展早期(如1950-60年代)非常普遍,為高頻應用(如早期計算機、通信設備)提供了可行的解決方案,是半導體技術演進過程中的一個重要裡程碑。
參考來源類型:
- 專業電子工程詞典/百科 (如:Wikipedia - "Transistor", "Silicon")
- 半導體器件物理與制造經典教材 (如:S. M. Sze - "Physics of Semiconductor Devices", "Semiconductor Devices: Physics and Technology")
- 電子技術史文獻 (如:IEEE曆史相關出版物,電子工程曆史網站)
- 早期晶體管技術專利或技術報告 (如:Bell Labs Technical Journal 相關文章)
網絡擴展解釋
“矽擴散晶膜凸型電晶體”是一個涉及半導體器件的專業術語,可拆解為以下幾個部分進行解釋:
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矽(Silicon)
矽是半導體制造中最常用的材料,因其良好的電學特性和穩定性,廣泛應用于晶體管、集成電路等領域。
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擴散(Diffusion)
指在高溫下将雜質原子(如磷、硼)引入矽片中的工藝,通過控制雜質分布形成PN結或其他功能區域。這一步驟對晶體管的電學性能至關重要。
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晶膜(Crystal Film)
可能指通過外延生長或氧化工藝在矽基底上形成的單晶/多晶薄膜層,用于構建器件的不同結構(如絕緣層或導電層)。
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凸型(Mesa)
一種晶體管結構,通過蝕刻工藝在半導體表面形成類似“台地”的凸起區域,以隔離不同元件并減少漏電流。這種結構常見于早期高頻或高功率器件中。
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電晶體(Transistor)
台灣地區對“晶體管”的稱呼,是一種用于放大或開關電信號的半導體器件。
綜合解釋:該術語描述的是一種采用矽材料、通過擴散工藝摻雜雜質,并在表面形成晶膜層及凸型結構的晶體管。其設計可能旨在優化高頻性能或耐壓能力,常見于特定曆史時期的半導體技術中。
由于搜索結果信息有限,建議結合權威半導體器件文獻進一步确認具體工藝細節。
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