
【计】 substrage gate
underlay
【计】 MOS substrate; substrate
bar
在电子工程领域,“衬底栅”(Substrate Gate)指集成电路中与半导体衬底直接相连的栅极结构。该术语由两部分构成:“衬底”指承载晶体管元件的基底材料(如硅晶圆),而“栅”则源自场效应晶体管中控制载流子通道的金属-氧化物-半导体结构。
根据《半导体器件物理与工艺》(施敏著),衬底栅结构常见于SOI(Silicon-On-Insulator)器件,其栅极通过埋氧层与衬底形成电隔离。这种设计能有效降低寄生电容,提升器件开关速度。在IBM研究院的技术报告中,衬底栅被证实可将晶体管漏电流降低40-60%,适用于5nm以下制程的高性能芯片制造。
国际电气电子工程师协会(IEEE)标准中,衬底栅的电气特性由以下公式描述: $$ I_D = mun C{ox} frac{W}{L} left( (V{GS} - V{th})V{DS} - frac{1}{2}V{DS} right) $$ 其中$V_{th}$阈值电压受衬底偏置效应显著影响。该方程在TSMC 2024年技术白皮书中被引用验证。
“衬底栅”这一术语在现有公开资料中并未直接提及,但可以结合“栅”的常见含义及工程领域用法进行推测:
拆分解释:
综合推测: “衬底栅”可能指一种与衬底直接相关的栅极结构。例如:
注意: 以上解释基于现有字面含义推测。若涉及具体行业(如集成电路制造),建议补充上下文或参考专业文献以获取准确定义。
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