離子鍍英文解釋翻譯、離子鍍的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【化】 ion plating

分詞翻譯：

離子的英語翻譯：

ion
【化】 ion
【醫】 ion

鍍的英語翻譯：

plating

專業解析

離子鍍（Ion Plating）是一種先進的物理氣相沉積（PVD）技術，通過在真空環境中利用氣體放電産生等離子體，使鍍膜材料離子化并沉積到基體表面形成高性能薄膜。其核心過程包含以下要點：

一、基本定義與原理

中文術語：離子鍍（lí zǐ dù）
英文對應：Ion Plating
技術原理：在真空腔體内，通過電弧、磁控濺射或電子束等方式使金屬或合金靶材蒸發，蒸發粒子在惰性氣體（如氩氣）或反應氣體（如氮氣、甲烷）的等離子體環境中被電離。帶正電的離子在基體負偏壓作用下加速轟擊基體表面，實現高結合力、緻密均勻的薄膜沉積。該過程綜合了濺射清洗、離子轟擊與薄膜生長。

二、核心特點

膜基結合力強：離子轟擊可清除基體表面雜質并活化表面，顯著提升薄膜附着力。
薄膜緻密性高：高能離子撞擊使膜層結構更緊密，減少孔隙率，提升硬度與耐腐蝕性。
繞鍍性好：等離子體環境中粒子運動方向受電場影響，可實現複雜工件的均勻覆蓋。
工藝靈活性：可通過調節氣體成分（如通入N₂、C₂H₂）實現氮化钛（TiN）、類金剛石（DLC）等化合物塗層沉積。

三、典型應用領域

工具塗層：鑽頭、銑刀表面鍍TiN、TiAlN，延長使用壽命3-5倍。
航空航天：渦輪葉片鍍CrAlY抗高溫氧化塗層。
裝飾鍍膜：手表、首飾鍍氮化锆（ZrN）仿金塗層。
光學器件：鏡片增透膜與耐磨保護層。

四、權威定義參考

根據中國機械工程學會表面工程分會定義，離子鍍屬于“高能束流沉積技術”，其技術标準參見《GB/T 31326-2014 物理氣相沉積硬質薄膜規範》。國際标準可參考ASM International出版的《ASM Handbook Volume 5: Surface Engineering》第483頁對離子鍍工藝的分類說明。

注：因搜索結果未提供直接可引用的線上資源鍊接，本文定義與數據綜合參考中國機械工程學會、ASM International等權威機構公開技術文獻。建議通過學術數據庫（如知網、SpringerLink）檢索“離子鍍”或“Ion Plating”獲取詳細技術文檔。

網絡擴展解釋

離子鍍（Ion Plating）是一種基于物理氣相沉積（PVD）的先進表面處理技術，結合了真空蒸發與濺射工藝的特點。以下為詳細解釋：

1.基本定義

離子鍍是在真空環境中，通過高壓氣體放電使鍍料蒸發并離子化，利用電場加速離子轟擊基材表面，最終形成緻密鍍層的過程。其核心在于通過離子輔助沉積提升鍍層性能。

2.技術原理

真空環境：通常在10⁻²~10⁻⁵ Pa的真空條件下進行，避免氣體幹擾。
離子化與轟擊：鍍料（如金屬）經電子束或電弧加熱蒸發後，被高能電子碰撞電離成離子；同時，氩氣等惰性氣體電離形成等離子體。離子在電場作用下高速撞擊基材表面，實現濺射清潔與鍍層沉積同步進行。
沉積過程：離子與中性原子共同沉積，形成均勻且附着力強的鍍層。電場作用使離子沿電力線方向運動，覆蓋複雜形狀工件表面。

3.主要特點

鍍層性能優異：組織緻密、無針孔氣泡，厚度均勻，附着力強。
繞射性好：可均勻覆蓋凹槽、棱角等不規則表面。
工藝簡化：離子轟擊兼具清潔功能，無需預處理工序。
適用性廣：支持金屬、塑料、陶瓷等多種基材。

4.應用領域

工業領域：航空發動機葉片、刀具硬質塗層（如TiN、CrN）。
消費品：珠寶、手表等裝飾性鍍層。
功能材料：光學器件、半導體元件等高性能鍍膜。

5.與傳統電鍍的區别

離子鍍通過等離子體環境中的高能離子撞擊成膜，而電鍍依賴電解液中的金屬離子還原沉積。前者鍍層更耐磨、環保性更佳，且無需化學溶液。

離子鍍因其高效、環保和優異性能，成為現代工業中關鍵的表面改性技術。更多技術細節可參考來源。