"溅射"在汉英词典中对应的英文为"sputtering"，该词在不同语境中存在多层含义：
基本物理释义
指高能粒子轰击固体表面时，导致表面原子或分子逸出的现象。这一过程由气体放电产生的离子碰撞引发，常见于真空镀膜技术。根据《现代汉语词典》释义，溅射特指"物质受高速粒子撞击时，表面原子飞散"的物理过程。
工业应用延伸义
在材料科学领域，溅射指通过离子束轰击靶材，使靶材原子沉积在基板表面的镀膜技术（溅射沉积）。美国材料与试验协会（ASTM）定义其为"利用气体放电产生离子轰击靶材实现物质转移的工艺"。
与相似术语的区分
区别于蒸发镀膜，溅射工艺具有靶材离化率高、镀层附着力强的特点。牛津科技词典指出，溅射过程中靶材温度通常低于蒸发点，更适合热敏感基材处理。
跨学科扩展应用
在天体物理学中，该词描述宇宙射线撞击行星表面引发的物质喷溅现象。NASA相关研究曾用"sputtering"解释月球土壤表层的元素分布特征。
溅射（Sputtering）是一种物理现象及工业技术，主要指通过高能粒子轰击固体表面，使材料原子或分子脱离并沉积到其他表面的过程。以下是详细解释：
溅射属于物理气相沉积（PVD）技术的一种。其核心原理是：在真空环境中，利用高能离子（如氩离子）轰击固体靶材表面，通过能量传递使靶材原子克服表面结合力，脱离并飞溅到基底材料上形成薄膜。
例如，在射频溅射中，通过高频电场激发等离子体，可沉积更致密的薄膜，优于直流溅射。
如需进一步了解具体参数或工艺流程，可参考、4、9等来源。
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