辉光电位英文解释翻译、辉光电位的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【电】 glow potentialr

分词翻译：

辉的英语翻译：

brightness; shine; splendour

光电位的英语翻译：

【化】 photopotential

专业解析

辉光电位 (Glow Potential) 指在特定电化学过程（如微弧氧化或阳极氧化）中，金属表面开始产生可见辉光放电现象时所对应的临界电压值。这个电位标志着从普通电解过程向等离子体放电阶段的转变，是形成功能性陶瓷氧化膜的关键参数。其核心含义包括：

1. 电化学机制

   当施加电压达到辉光电位时，金属/电解液界面发生介质击穿，产生局部等离子体放电通道。此时电流通过微放电维持，在金属表面形成高温高压微区，促使熔融氧化物快速冷却结晶，生成高硬度、耐腐蚀的陶瓷层。该过程区别于常规阳极氧化，需精确控制电位在辉光放电区间以优化膜层性能 。

2. 技术价值

   辉光电位直接影响氧化膜的结构与性能：

   • 膜层致密性：较高辉光电位（如铝合金的 450-600V）利于生成厚且致密的 α-Al₂O₃ 相，提升耐磨性；
   • 功能特性：通过调控电位可制备具有催化、绝缘或生物活性的复合膜层；
   • 工艺窗口：稳定维持辉光放电需电压介于击穿电位（起始辉光）与弧光电位（过度放电）之间，避免膜层烧蚀 。

3. 典型应用场景

   • 航空航天：钛合金部件表面微弧氧化处理（辉光电位 300-400V），增强抗高温氧化性；
   • 生物医学：镁合金植入物表面调控（辉光电位 350-450V），延缓降解速率并促进骨整合；
   • 工业防腐：铝合金液压系统元件处理（辉光电位 500-650V），提升耐盐雾腐蚀寿命 。

权威参考来源

1. 《表面工程手册》（ASM International）：阐述辉光电位在等离子体电解氧化中的物理模型与工艺控制要点。
2. 《电化学氧化技术进展》（Elsevier）：分析不同金属体系（Al, Mg, Ti）的辉光电位范围及膜层生长动力学。
3. 《材料保护学报》：实证研究辉光电位对铝合金微弧氧化膜耐蚀性的影响机制。

网络扩展解释

“辉光电位”是一个相对专业的术语，通常与电化学、材料表面处理或气体放电现象相关。根据常见科学场景，其可能的含义如下：

1.基本定义

辉光电位（Glow Potential）一般指在特定条件下（如气体放电、电化学反应等），材料表面或电极达到的某一临界电位值。当电位达到该值时，系统会触发辉光放电现象，即气体被电离并发光，常见于霓虹灯、等离子体设备等。

2.典型应用场景

• 气体放电：在低压气体中，施加电压至辉光电位时，气体分子被电离，形成稳定的辉光放电（如荧光灯、霓虹灯）。
• 电化学处理：在金属表面处理（如阳极氧化）中，特定电位可能引发表面反应并伴随辉光现象，用于改善材料性能。
• 等离子体技术：在等离子体清洗或镀膜工艺中，辉光电位是维持等离子体稳定放电的关键参数。

3.相关物理机制

辉光放电的形成需满足以下条件：

• 电压条件：电位需超过气体的击穿电压（即辉光电位）。
• 电流限制：需通过限流装置（如电阻）防止电流过大导致电弧放电。
• 气体环境：通常在低压惰性气体（如氩气、氖气）中更易发生。

4.补充说明

若用户提及的是特定领域（如半导体、电池材料），可能需要结合具体上下文进一步分析。例如：

• 在锂离子电池中，某些电极材料在充放电时会因相变产生微弱发光，可能与“辉光电位”相关。
• 在表面分析技术（如扫描隧道显微镜）中，局域电场可能诱导表面发光现象。

如需更精准的解释，建议提供具体语境或查阅电化学、等离子体物理领域的专业文献。

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