
【计】 silicon backing wafer
silicon
【医】 Si; silicium; silicon
【化】 facing; gland
硅衬片(Silicon Wafer Substrate)是半导体制造中的核心基础材料,指用于制造集成电路(IC)和其他微电子器件的单晶硅圆片。其详细含义可从以下角度解释:
结构与物理特性
硅衬片是由高纯度单晶硅锭切割、研磨、抛光而成的薄圆片,具有原子级平整的表面和特定的晶向(如<100>、<111>)。其直径常见为150mm(6英寸)、200mm(8英寸)和300mm(12英寸),厚度随直径增大而减小(如300mm片约775μm)。硅的半导体特性(如可调控的电导率、良好的热稳定性)使其成为微电子器件的理想载体。
核心功能
作为“衬底”或“基板”,硅衬片的主要功能是为后续半导体工艺(如光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积)提供机械支撑和电学平台。晶体管、电容、电阻等元件直接在硅片表面或近表面层制造,并通过金属互连层形成复杂电路。
技术分类
根据应用需求,硅衬片可分为:
应用领域
硅衬片是制造CPU、GPU、存储器(DRAM/NAND)、传感器、功率器件等几乎所有现代电子设备芯片的基础。其质量(如缺陷密度、平整度、纯度)直接影响芯片良率和性能。
权威参考来源:
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硅衬片(Silicon Substrate Wafer)通常指以单晶硅(Silicon)为材料制成的薄片状基底,主要用于半导体、微电子及光电子器件的制造。以下是关键点解析:
定义与用途
制造工艺
分类与规格
应用领域
注意:若用户需具体技术参数或最新进展,建议参考半导体制造手册或专业文献。
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