
"金属化"(jīnshǔ huà)作为专业术语在汉英词典中对应"metallization",指通过物理或化学手段在非金属材料表面形成金属层的过程。这一概念广泛应用于材料科学和工业制造领域,具体包含以下核心内涵:
技术定义
金属化是通过真空镀膜、化学沉积或电镀等方法,在塑料、陶瓷等基材表面形成导电金属涂层的表面处理工艺。该技术显著提升材料的导电性、耐腐蚀性和机械强度。
应用范畴
包含电子元件封装(如芯片金属化互连)、航天器热控涂层、装饰性镀层(如汽车零部件镀铬)三大应用方向。美国材料试验协会标准ASTM B374将其细分为功能性镀层和防护性镀层两类。
工艺特征
现代金属化技术需满足膜层厚度0.1-25μm的精密控制要求,沉积速率根据不同工艺(如PVD/CVD)可达0.1-10μm/min。关键参数包括结合强度(≥50MPa)和方阻(<0.1Ω/□)。
标准规范
中国国家标准GB/T 3138-2015《金属化薄膜电容器用金属化膜》明确规定了金属化膜的厚度公差(±5%)、方阻均匀性(CV≤3%)等18项技术指标,构成行业基准。
金属化是一个多领域术语,其核心含义是在非金属或半导体材料表面形成金属层的过程,但具体应用和工艺因场景不同而有所差异。以下是主要领域的解释:
定义与工艺
指在物体表面施加金属涂层的过程,常见方法包括化学沉积、真空汽化金属沉积,以及通过熔化金属丝后雾化喷涂到基材表面。例如,金属丝在高温下液化后形成微小颗粒,覆盖基材形成保护层。
功能分类
定义与作用
在芯片绝缘介质上沉积金属薄膜(如铝、铜),通过光刻形成互连线和孔填充塞,实现晶体管间的信号传输。随着芯片集成度提高(如10亿晶体管/芯片),金属化需解决电阻和寄生电容增加导致的信号延迟问题。
关键工艺
材料演变
早期使用金,后转向铝,现代工艺多采用铜以降低电阻。
在游戏《勇者斗恶龙怪兽篇》中,“金属化”指角色对除特定魔法外的全魔法免疫状态,但此含义与工业技术无关。
金属化的核心是通过金属层赋予材料新功能,工业中侧重防护或导电,半导体领域则关乎芯片性能。需根据具体场景理解其含义。
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