
【电】 epitaxial process
【电】 epitaxial
course; procedure; process
【计】 PROC
【化】 process
【医】 course; process
【经】 process
晶膜过程(Crystalline Film Process)是材料科学中制备单晶或多晶薄膜的关键技术,指在基底表面通过物理或化学方法定向生长晶体薄膜的工艺。该术语在汉英词典中常译为"crystalline film formation"或"crystal membrane processing"。
从技术机理来看,该过程包含三个阶段:
在半导体制造领域,该技术被广泛应用于芯片绝缘层制备,例如通过化学气相沉积(CVD)生成二氧化硅晶膜。光学器件制造中,磁控溅射技术可制备出纳米级氧化锌晶膜,这种结构具有独特的光电特性(数据源自IEEE电子器件会刊)。
需要说明的是,不同基底材料(硅片、蓝宝石、石墨烯等)和沉积参数(温度、压强、气体流速)会显著影响晶膜的晶体质量和界面特性(参考Springer《先进薄膜技术》第7章)。
关于“晶膜过程”的解释如下:
“晶膜过程”指在溶液结晶过程中,溶质与未完全蒸发的水分形成透明薄膜的阶段。这一现象通常出现在晶体生长初期或特定实验条件下,例如通过控制加热和冷却条件实现。
根据词典资料,“晶膜过程”对应的英文翻译为“crystal film process”。
如需更详细的技术参数或工业应用案例,可参考材料科学领域的专业数据库。
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