
【電】 epitaxial process
【電】 epitaxial
course; procedure; process
【計】 PROC
【化】 process
【醫】 course; process
【經】 process
晶膜過程(Crystalline Film Process)是材料科學中制備單晶或多晶薄膜的關鍵技術,指在基底表面通過物理或化學方法定向生長晶體薄膜的工藝。該術語在漢英詞典中常譯為"crystalline film formation"或"crystal membrane processing"。
從技術機理來看,該過程包含三個階段:
在半導體制造領域,該技術被廣泛應用于芯片絕緣層制備,例如通過化學氣相沉積(CVD)生成二氧化矽晶膜。光學器件制造中,磁控濺射技術可制備出納米級氧化鋅晶膜,這種結構具有獨特的光電特性(數據源自IEEE電子器件會刊)。
需要說明的是,不同基底材料(矽片、藍寶石、石墨烯等)和沉積參數(溫度、壓強、氣體流速)會顯著影響晶膜的晶體質量和界面特性(參考Springer《先進薄膜技術》第7章)。
關于“晶膜過程”的解釋如下:
“晶膜過程”指在溶液結晶過程中,溶質與未完全蒸發的水分形成透明薄膜的階段。這一現象通常出現在晶體生長初期或特定實驗條件下,例如通過控制加熱和冷卻條件實現。
根據詞典資料,“晶膜過程”對應的英文翻譯為“crystal film process”。
如需更詳細的技術參數或工業應用案例,可參考材料科學領域的專業數據庫。
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