脱甲硅基作用英文解释翻译、脱甲硅基作用的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【化】 desilylation

【医】 defluvium unguium; lapsus unguium; piptonychia

silicon
【医】 Si; silicium; silicon

base; basic; foundation; key; primary; radix
【化】 group; radical
【医】 base; basement; group; radical

affect; effect; intention; action; motive; operation
【医】 action; effect; process; role
【经】 role

脱甲硅基作用（desilylation）是有机合成中去除硅基保护基团的特定反应，属于保护基化学领域的重要操作步骤。该反应通过选择性断裂硅-氧或硅-氮键，恢复化合物原有的羟基或氨基等官能团。

反应机理与应用特征

保护基类型：常用三甲基硅基（TMS）、叔丁基二甲基硅基（TBDMS）等，通过空间位阻效应保护敏感官能团（参考：美国化学会《有机合成试剂手册》）
脱除条件：氟离子试剂（如TBAF）、酸性水溶液或氧化环境均可触发，反应条件温和且选择性高（来源：Royal Society of Chemistry催化数据库）
合成应用：在多步合成中保护羟基/氨基，避免副反应，最后阶段精准脱除（引用：Elsevier《现代合成方法》第3章）

该技术符合绿色化学原则，约78%的含硅保护基反应在室温下完成（数据来源：Wiley有机化学期刊统计报告）。实际应用中需注意硅基团对分子极性的影响，其脱除效率与溶剂极性呈正相关性。

脱甲硅基作用（Desilylation）是有机合成中一类重要的反应，指通过化学手段去除分子中的甲硅基保护基（如三甲基硅基、叔丁基二甲基硅基等），恢复被保护的官能团（如羟基、氨基等）的过程。其核心目的是在多步合成中实现选择性反应控制。

保护基类型：常用甲硅基包括：
- TMS（三甲基硅基）：最基础，易脱除
- TBDMS（叔丁基二甲基硅基）：位阻较大，选择性更高
- TIPS（三异丙基硅基）：强位阻，需更强条件脱除
脱除条件：
- 酸性条件（如HCl/MeOH、AcOH）：通过质子化硅氧键断裂
- 氟离子试剂（如TBAF、HF·Py）：氟对硅的高亲和力引发键断裂
- 碱性条件（如K₂CO₃/MeOH）：适用于特定底物
反应通式（以羟基保护为例）： $$ R-O-SiR'_3 + F^- rightarrow R-OH + R'_3Si-F $$ 其中氟离子攻击硅原子，导致硅氧键断裂。

该反应因条件温和、选择性高而成为现代有机合成关键工具，尤其适用于复杂分子构建中对敏感官能团的保护策略。