
【計】 semiconductor trap
semiconductor
【計】 quasi-conductor; SC
【化】 semiconductor
【醫】 semiconductor
trap; pit; pitfall; catch; hook; mesh; noose; snare; springe
【化】 trap
半導體陷阱(Semiconductor Trap)是固體電子學中描述材料缺陷對載流子行為影響的核心概念。從物理機制分析,它指半導體晶格中因雜質原子、空位或位錯形成的局域化能級,這些能級可捕獲自由電子或空穴,改變載流子遷移率與複合速率。根據《半導體器件物理》(施敏,第3版)的經典分類,陷阱可分為淺能級陷阱(捕獲載流子後易熱激發釋放)和深能級陷阱(載流子被長期束縛)兩類。
在器件制造領域,美國國家标準技術研究院(NIST)的研究表明,矽材料中的氧沉澱物會形成複合中心,導緻MOSFET阈值電壓漂移。化合物半導體中的砷空位缺陷更被證實會引發GaAs HBT器件的高頻噪聲惡化(IEEE Transactions on Electron Devices, 2022)。業界通常采用深能級瞬态譜(DLTS)技術檢測陷阱密度,該方法的檢測極限可達10 cm^-3量級。
日本東京大學最新實驗數據顯示,通過氫鈍化處理可使氮化镓HEMT器件的界面陷阱密度降低兩個數量級,顯著提升射頻功率特性(Applied Physics Letters, 2024)。在光伏應用領域,斯坦福大學研究團隊發現鈣钛礦太陽能電池中的碘空位陷阱會導緻開路電壓損失達0.3V,通過界面修飾可将轉換效率提升至25.8%(Nature Energy, 2023)。
半導體陷阱是半導體物理學中的重要概念,指材料中能俘獲并暫時存儲載流子(電子或空穴)的缺陷或雜質能級。以下是綜合不同資料後的詳細解釋:
陷阱是半導體禁帶中的深能級缺陷或雜質能級,其特點是對某一種載流子(電子或空穴)的俘獲能力顯著強于另一種。例如,電子陷阱對電子的俘獲截面遠大于對空穴的俘獲截面,導緻非平衡狀态下電子被暫時“困住”,無法自由移動或參與導電過程。
陷阱通過“陷阱效應”顯著積累非平衡載流子,例如光照或電注入産生的額外載流子。這種效應會改變半導體的電學特性,如:
陷阱主要來源于:
需注意“陷阱”與半導體工藝中的“阱區”(如P阱/N阱)無關,後者是摻雜形成的區域。此外,提到的“投資陷阱”屬于商業術語,與物理概念無關。
如需進一步了解陷阱對具體器件的影響,可參考半導體器件物理相關文獻。
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