電子衍射儀英文解釋翻譯、電子衍射儀的近義詞、反義詞、例句
英語翻譯:
【化】 electron diffractometer
分詞翻譯:
電子衍射的英語翻譯:
【計】 electron diffraction
【化】 electron diffraction
儀的英語翻譯:
appearance; bearing; ceremony; instrument; present
專業解析
電子衍射儀(Electron Diffractometer)是一種利用高能電子束與晶體材料相互作用産生衍射現象,進而分析物質微觀結構的精密儀器。其核心原理基于布拉格定律(Bragg's Law),即當電子束波長與晶體晶面間距滿足特定角度條件時,會發生相幹衍射,形成可觀測的衍射圖案。
儀器結構與工作模式
典型的電子衍射儀由電子槍、電磁透鏡系統、樣品台、探測器和真空系統組成。其中電磁透鏡通過調節磁場強度實現電子束的聚焦與偏轉,而真空環境(通常<10⁻⁶ Torr)可減少電子與氣體分子的碰撞散射。現代設備多配備CCD相機或直接電子探測器,支持動态衍射數據采集。
核心應用領域
- 晶體結構解析:通過衍射點陣計算晶胞參數,例如在納米材料研究中确定量子點晶型(如面心立方或六方密堆)
- 缺陷分析:觀測位錯、層錯等晶體缺陷引起的衍射襯度變化
- 相變研究:追蹤高溫/低溫環境下材料的相變過程,如馬氏體相變的原位觀測
- 生物大分子成像:冷凍電鏡技術中用于解析蛋白質三維結構,分辨率可達原子級别
技術分類
- 選區衍射(SAED):通過光闌限制分析區域,適用于多相材料局部結構表征
- 會聚束電子衍射(CBED):可測定晶體對稱性及厚度方向應變分布
- 微區衍射(μED):配合聚焦離子束制備微米級樣品,用于半導體器件失效分析
權威參考文獻
- 國際晶體學聯合會(IUCr)發布的《電子衍射結構解析指南》
- 施普林格出版社《Transmission Electron Microscopy and Diffractometry of Materials》第四版(B. Fultz, 2023)
- 中國科學院物理研究所電子顯微鏡實驗室技術白皮書(2024年修訂版)
網絡擴展解釋
電子衍射儀是一種利用電子束與晶體材料相互作用産生衍射效應,從而分析材料微觀結構的科學儀器。以下是其核心要點:
一、工作原理
基于布拉格衍射定律($small nlambda = 2dsintheta$),當高能電子束(波長接近晶格常數)照射樣品時,晶體原子作為光栅産生衍射,形成特定衍射花樣。通過分析花樣可反推晶體結構參數。
二、主要類型
- 透射式:適用于厚度<0.2μm的薄膜分析(如金屬薄膜、納米顆粒),電子束穿透樣品後成像。
- 反射式(RHEED):以1°~3°掠射角分析大塊材料表面結構,常用于薄膜生長實時監測。
- 選區/微區衍射:通過電磁透鏡選擇微小區域(最小達數百埃)進行局部結構分析。
三、技術特點
- 高靈敏度:電子散射強度比X射線強10⁴倍,適合微量樣品(如單顆微粒)。
- 空間分辨率高:可分析1μm²微區,配合掃描裝置可達納米級。
- 局限性:電子穿透深度僅約0.1μm,需制備超薄樣品。
四、典型應用
- 物相鑒定:通過衍射環/斑點匹配标準數據庫,确定材料成分。
- 晶體取向分析:測定晶粒取向、織構等(如金屬材料變形研究)。
- 表面結構表征:反射式用于半導體外延生長監控。
- 原子位置測定:結合會聚束技術可解析晶體對稱性及原子排列。
五、儀器構成示例(以DF-6型為例)
包含電子槍(加速電壓≤12kV)、多晶金屬靶、熒光屏和磁偏轉系統,通過測量衍射環半徑與靶-屏間距計算電子波長,驗證波粒二象性。
提示:如需完整技術參數或具體型號對比,可參考、4、6的原始資料。
分類
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