低壓電弧離子源英文解釋翻譯、低壓電弧離子源的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【化】 low-voltage arc ion source

分詞翻譯：

低壓的英語翻譯：

【醫】 hypopiesia; hypopiesis; low tension

電弧的英語翻譯：

【醫】 arc light; voltaic arc

離子源的英語翻譯：

【化】 ion source
【醫】 source ion

專業解析

低壓電弧離子源（Low-pressure Arc Ion Source）是一種在真空或低氣壓環境下通過電弧放電産生高密度離子束的裝置。其核心原理是利用電極間的高壓電弧擊穿氣體介質，使氣體分子電離形成等離子體，并通過電磁場引導和加速離子束流。根據《現代離子源技術手冊》記載，該技術的關鍵參數包括工作氣壓範圍（10⁻¹–10² Pa）、電弧電壓（20-100 V）及離子束流密度（0.1-10 A/cm²）。

從結構組成來看，典型的低壓電弧離子源包含陰極、陽極、磁約束系統和真空腔室四部分。清華大學《等離子體工程基礎》指出，陰極材料多采用鎢或钍鎢合金以增強電子發射能力，而磁約束系統通過軸向磁場壓縮電弧，可使等離子體密度提升3-5個數量級。美國物理聯合會（AIP）的實測數據顯示，此類離子源在薄膜沉積領域可實現90%以上的離化率，顯著優于常規濺射技術。

該技術已廣泛應用于半導體制造（如離子注入）、表面改性工程（如刀具鍍膜）和航天器推進系統。中科院《真空科學與技術學報》的對比實驗表明，采用脈沖調制電弧可将離子能量分布半高寬控制在5 eV以内，這對制備納米級多層膜結構具有決定性作用。

網絡擴展解釋

低壓電弧離子源是一種利用低壓電弧放電産生等離子體，并從中引出離子束的裝置。以下從定義、工作原理、結構特點和應用領域進行綜合解釋：

核心定義由兩部分構成：
- 低壓電弧：指在200伏以下電壓環境中，通過氣體放電形成的高溫電離氣體電流，具有穩定發光特性（電流1-10A，溫度可達數千攝氏度）。
- 離子源：通過電離氣體原子或分子産生離子束的裝置，屬于真空等離子技術的關鍵部件。
工作原理在均勻磁場環境中，陰極熱發射電子與低壓氣體（如氩氣）碰撞産生等離子體。陽極筒（與磁場同軸向）引導放電，形成高密度等離子體弧柱，最終通過電極設計從側向或軸向引出離子束。
結構特點
- 采用封閉式放電腔減少氣體消耗
- 磁約束系統提高電子利用率
- 模塊化電源設計支持不同引出方式（如脈沖或直流）
主要應用
- 薄膜沉積技術（如太陽能電池鍍膜）
- 半導體器件表面改性
- 材料表面清洗與刻蝕
- 航天器離子推進系統

該技術通過低壓環境下的高效電離特性，在精密制造和航天領域具有顯著優勢。更多技術參數可參考離子源電源廠商的行業标準文檔。