
【電】 field-effect tube
場效應晶體管(Field-Effect Transistor,FET)是一種利用電場效應控制電流的三端半導體器件,其核心特征是通過栅極電壓調節導電溝道的導通狀态。作為電壓控制型器件,它與雙極型晶體管(BJT)的電流控制機制形成本質區别。
結構組成
典型FET包含三個電極:源極(Source)、漏極(Drain)和栅極(Gate)。以金屬-氧化物半導體場效應管(MOSFET)為例,其結構由半導體襯底、絕緣氧化層和金屬栅極構成,根據摻雜類型可分為N溝道與P溝道兩種基本形态(參考:《半導體器件物理與工藝》第三版)。
工作機理
當栅極施加偏置電壓時,會在半導體表面形成反型層作為導電通道。以N-MOSFET為例,正栅壓使P型襯底表面産生電子積累層,形成源漏極間的低阻通路。漏極電流$ID$與栅源電壓$V{GS}$滿足平方律關系: $$ I_D = mun C{ox} frac{W}{L} left( (V{GS}-V{th})V{DS} - frac{1}{2}V{DS} right) $$ 該公式源自IEEE Transactions on Electron Devices期刊的器件建模研究。
主要分類
典型應用
• 功率放大電路中的射頻MOSFET(IEEE Microwave Magazine)
• CMOS邏輯門電路的核心開關元件
• 電源管理芯片中的功率開關器件(參考:Texas Instruments技術文檔)
場效應管(Field Effect Transistor, FET)是一種利用電場效應控制電流的半導體器件,屬于電壓控制型單極型晶體管。以下是其核心概念和原理的綜合解析:
核心定義
場效應管通過輸入回路的電場效應調節輸出回路電流,僅依賴多數載流子(電子或空穴)導電,因此被稱為單極型晶體管。其輸入阻抗極高(可達10⁸~10⁹Ω),幾乎不取電流,適合低功耗場景。
主要特點
主要類型
電極結構
包含三個電極:
電場控制機制
輸出特性曲線
轉移特性公式
恒流區的漏極電流近似為:
$$
ID = I{DSS} left(1 - frac{U_{GS}}{VP}right)
$$
其中,(I{DSS})為飽和電流,(V_P)為夾斷電壓。
場效應管廣泛用于放大電路(如射頻放大器)、開關電路(如電源管理芯片)及集成電路(如CPU、存儲器)。其低功耗特性使其在便攜式電子設備中尤為重要。
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