
【電】 abnormal glow
abnormal
【化】 glowing
【醫】 glow
"不正常輝光"在電子工程領域特指氣體放電過程中超出常規工作範圍的異常發光現象,其英文對應術語為"abnormal glow discharge"。該現象區别于正常輝光放電,主要呈現三個核心特征:
電壓-電流特性:當放電電流超過臨界值(陰極表面完全覆蓋輝光時對應的電流值),管電壓隨電流增加而上升,形成正阻抗特性。該特性在《氣體放電物理》(科學出版社,2012)第三章有詳細數學描述: $$ V = V_n + k(I - I_n) $$ 其中$V_n$為正常輝光電壓,$I_n$為臨界電流。
陰極濺射效應:陰極表面局部電流密度可達10-100 A/cm²,導緻強烈濺射現象,該數據源自IEEE Transactions on Plasma Science 2018年刊載的電極侵蝕研究。
工程應用局限:異常輝光狀态因伴隨劇烈粒子轟擊,通常不作為穩定工作區使用。《電子器件制造工藝手冊》(機械工業出版社,2020)第7.4節明确指出,等離子體處理設備需通過限流電阻避免進入此狀态。
與正常輝光放電相比,其陰極壓降區電場強度提高2-3個數量級,該結論可參考清華大學《等離子體工程基礎》教材第四章的對比實驗數據。在真空鍍膜、表面改性等工業場景中,工程師需通過氣體壓強(0.1-10 Torr)和電極間距(厘米級)的精确控制來規避異常輝光狀态。
“不正常輝光”并非标準術語,但結合“輝光”的物理定義和放電特性,可推測其可能指代輝光放電中的異常現象,具體分析如下:
若輝光放電偏離上述特征,可能表現為:
建議:該術語可能屬于專業領域表述,需結合具體上下文或實驗條件分析。如需準确解釋,請參考電學或氣體放電相關權威文獻。
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