高能电子衍射英文解释翻译、高能电子衍射的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【化】 HEED; high-energy electron diffraction (HEED)

分词翻译：

高的英语翻译：

high; high-priced; lofty; loud; tall
【医】 homo-; hyper-; hypsi-; hypso-; per-

能的英语翻译：

ability; able; be able to; can; capable; energy; skill
【化】 energy
【医】 energy

电子衍射的英语翻译：

【计】 electron diffraction
【化】 electron diffraction

专业解析

高能电子衍射 (High-Energy Electron Diffraction, HEED)

定义与核心原理

高能电子衍射（HEED）是一种利用高能电子束（通常在10 keV至1000 keV能量范围）照射晶体材料表面，通过分析衍射电子波的强度和分布来研究材料表面原子结构的技术。其物理基础是电子的波动性：当高能电子入射到晶体表面时，会与原子周期排列产生的晶格发生相互作用，遵循布拉格定律（Bragg's Law），在特定角度形成衍射斑点或环。该技术对表面原子排列、缺陷及相变高度敏感。

技术特点与优势

高分辨率与穿透性：高能电子束波长极短（如100 keV电子波长约0.037 Å），可解析亚原子尺度结构，同时具备一定穿透深度（纳米至微米级），适用于薄膜和体材料分析。
动态实时分析：可在高温、低温或气体环境中实时观测表面重构、吸附或化学反应过程，为原位研究提供关键手段。

典型应用场景

表面科学：表征金属、半导体表面的原子排列、台阶结构及吸附层有序性（如石墨烯外延生长监测）。
材料相变研究：追踪合金时效析出、氧化反应等过程中的晶体结构演变。
纳米材料表征：分析纳米颗粒、量子点的晶体取向与缺陷分布。

与相关技术的区别

相较于低能电子衍射（LEED，能量<500 eV），HEED因电子能量更高，受表面污染影响更小，且可探测次表层信息；与X射线衍射（XRD）相比，HEED对轻元素更敏感且所需样品量更少。

参考来源

网络扩展解释

高能电子衍射（Reflection High-Energy Electron Diffraction, RHEED）是一种通过高能电子束与晶体表面相互作用，分析材料表面结构和动态生长过程的表征技术。以下是其核心要点：

一、基本原理

电子束特性
使用能量为10-50 keV（对应波长约0.01-0.05 nm）的电子束，以极小的掠射角（1°-3°）入射到样品表面。由于电子穿透深度仅1-2个原子层，主要反映表面结构信息。
布拉格衍射与表面敏感
满足布拉格方程（$$2dsinθ = nλ$$）时，电子波与表面原子周期性排列发生干涉，形成衍射斑点。因入射方向几乎平行于表面，垂直动量分量小，仅与表层原子作用。

二、技术特点

表面分析优势
- 可实时监测薄膜生长过程，如分子束外延（MBE）中的表面重构、晶相变化。
- 对表面平整度敏感，通过衍射斑点强度振荡判断单层生长状态。
高分辨率与适用性
- 加速电压高（10-1000 keV），波长更短，适合分析纳米级表面微结构。
- 相比低能电子衍射（LEED），穿透性更弱，更适合厚样品表面研究。

三、装置结构

主要由电子枪和荧光屏组成：

电子枪：发射单能电子束，经电磁透镜聚焦后掠射至样品。
检测系统：荧光屏或CCD相机记录衍射图样，透射式（TEM内）或反射式（独立装置）。

四、应用领域

材料科学：表征薄膜生长机制、表面缺陷及晶格匹配。
半导体工艺：MBE生长中实时监控外延层质量。
表面物理：研究吸附、氧化等表面反应动态过程。

参考资料

基础原理与装置：、2、3、5、9
应用实例：

如需更深入的技术参数或实验案例，可查阅相关文献或仪器手册。