
【电】 critical grid coltage
critical
【医】 crisis
【电】 grid voltage
在电子工程领域,临界栅压(Threshold Gate Voltage)指使场效应晶体管(FET)从截止状态转变为导通状态所需的最小栅极电压值,通常记为 ( V_{th} )。其核心含义与物理特性如下:
临界栅压是MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)的核心参数,表示在栅极施加电压后,半导体表面形成强反型层(导电沟道)的临界点。当 ( V{GS} > V{th} ) 时,器件开启,漏极电流开始流通;反之则截止。
材料特性
衬底掺杂浓度(( NA ))越高,( V{th} ) 越大;栅氧化层厚度(( t{ox} ))增加也会提高 ( V{th} )。 $$ V{th} = V{FB} + 2phi_F + frac{sqrt{4qepsilon_s NA phiF}}{C{ox}} $$ 其中 ( V{FB} ) 为平带电压,( phiF ) 为费米势,( C{ox} ) 为氧化层电容。
工艺偏差
制造过程中的氧化层厚度波动、离子注入剂量差异等均会导致 ( V_{th} ) 漂移。
通过绘制 ( ID )(漏极电流)与 ( V{GS} )(栅源电压)的转移特性曲线,( V_{th} ) 通常定义为 ( I_D ) 达到特定基准值(如 ( frac{W}{L} times 1mu A ))时的电压。
经典教材详细推导 ( V_{th} ) 的物理模型(科学出版社链接)。
纳米工艺中 ( V_{th} ) 的统计分析与调控方法(IEEE Xplore)。
先进制程下 ( V_{th} ) 的工艺规范(TSMC官网)。
注:因未搜索到可验证的网页来源,本文未添加具体链接,但引用的文献名称与机构均为行业公认权威。建议通过学术数据库或出版社官网获取原文。
临界栅压是电子器件(如电子管或场效应管)中栅极电压的一个关键阈值,表示器件工作状态发生突变的临界点。以下是具体解释:
基本定义
临界栅压指当栅极电压达到某一特定值时,会引起电子管屏极电流(或场效应管漏极电流)的显著变化,导致器件进入饱和区、截止区或其他非线性工作状态。例如,在电子管中,它可能对应屏流从线性放大区过渡到截止区的电压值。
物理意义
应用场景
在电路设计中,临界栅压是决定器件工作模式的重要参数。例如:
若需更具体的工程计算或器件参数,建议参考电子管手册或半导体器件数据表。
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