场离子显微镜检查法英文解释翻译、场离子显微镜检查法的近义词、反义词、例句
英语翻译:
【化】 field ion microscopy(FIM)
分词翻译:
场离子显微镜的英语翻译:
【电】 field-ion microscope; ion microscope
检查法的英语翻译:
【经】 checking method
专业解析
场离子显微镜检查法(Field Ion Microscopy, FIM)是一种基于量子隧穿效应和场致电离原理的高分辨率表面分析技术。其核心原理是通过在极低温(约20-80K)条件下,对金属针尖施加高强度正电场(10 V/m量级),使表面吸附的惰性气体原子(如氦、氖)发生电离,产生的离子沿电场线轨迹投射到荧光屏上,形成原子级分辨的样品表面图像。
该技术包含三个关键环节:
- 样品制备:需将金属材料加工成曲率半径约100纳米的针尖状,以保证电场集中。
- 成像环境:要求超高真空(<10^-8 Torr)配合液氦冷却系统,抑制热振动干扰。
- 图像解析:通过氦离子撞击荧光屏产生的亮点分布,可重构样品表面的原子排列结构。据《表面科学进展》期刊记载,此技术能实现0.2-0.3纳米的横向分辨率。
场离子显微镜在材料科学领域的典型应用包括:
- 金属晶体缺陷分析(如位错、晶界)
- 表面吸附过程动态观测
- 纳米结构原子重构验证
美国国家标准与技术研究院(NIST)的评估报告指出,该技术因需苛刻的实验条件,现已部分被扫描隧道显微镜取代,但仍作为原子尺度表征的基准方法存在。其成像理论可通过以下公式表述:
$$
W = int_{0}^{r_0} F(r) , dr = phi - E_k
$$
其中$W$为电离功函数,$F(r)$为位置相关电场强度,$phi$为材料功函数,$E_k$为离子动能。
网络扩展解释
场离子显微镜检查法(Field Ion Microscopy, FIM)是一种高分辨率的表面分析技术,可直接观察材料表层的原子排列和缺陷,并实现单原子级别的成分分析。以下是其核心要点:
1.定义与发展
- 由E.W. Müller于20世纪50年代发明,最初基于场发射显微镜(FEM)改进而来,后与飞行时间质谱结合形成原子探针场离子显微镜(APFIM),进一步扩展了元素分析功能。
2.工作原理
- 样品制备:将材料制成针尖状(曲率半径约100纳米),通过电化学腐蚀处理,并冷却至液氮或液氦温度以稳定原子热振动。
- 成像过程:在超高真空(约10⁻⁸ Pa)中通入氦、氖等成像气体。施加高电压(3–30 kV)后,气体原子在针尖强电场下发生极化、电离,离子沿电场线撞击荧光屏形成原子级分辨图像。
- 信号增强:通过微通道板放大离子信号,最终在荧光屏上显示与表面原子一一对应的亮斑。
3.技术特点
- 原子级分辨率:可直接显示材料表面单个原子的位置及排列。
- 成分分析:结合原子探针技术(如3DAP),可逐层剥离原子并鉴定元素种类,生成三维元素分布图。
4.应用领域
- 材料科学:研究纳米析出相、团簇结构及元素偏聚现象。
- 表面科学:分析表面重构、吸附行为和缺陷。
- 纳米技术:用于纳米材料原子尺度形貌与结构的表征。
5.局限性
- 需制备超细针尖样品,可能破坏原始结构。
- 仅适用于导电或半导体材料,且操作条件苛刻(低温、高真空)。
如需进一步了解技术细节或案例,可参考、2、4、9等来源的完整内容。
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