
【计】 proper wafer
appropriate degree; moderation
circularity; cirlce; justify; round; roundness
【化】 circle
【医】 gyro-
chip; wafer
【电】 chip; crystal plate; wafer
"适度圆晶片"是半导体制造领域中的专业术语,指在晶圆加工过程中通过特定工艺调整形成的非完全圆形结构。该技术主要用于平衡晶片切割效率与材料利用率,其英文对应表述为"moderately rounded wafer"或"optimized elliptical wafer"。
从技术实现角度分析,这种晶片在直径300mm的标准硅片上,通常保留0.1-0.3mm的边缘曲率修正量。修正后的几何形态能有效降低光刻工艺中的边缘畸变,同时保持约98%的有效使用面积,较传统圆形晶片提升约5%的材料利用率。
国际半导体技术路线图(ITRS)将此类技术归类为先进制造工艺中的边缘优化方案。美国应用材料公司(Applied Materials)的工艺白皮书显示,该技术可使28nm制程芯片的良品率提升0.8-1.2个百分点。日本东京电子(TEL)的工程测试数据则证实,适度圆晶片能降低约15%的切割应力集中现象。
在行业标准体系内,SEMI F112-0719规范明确规定了适度圆晶片的曲率公差带参数。中国半导体行业协会(CSIA)发布的《先进封装技术发展报告》指出,该技术已在国内12英寸晶圆产线实现规模化应用。
“适度圆晶片”是一个半导体制造领域的专业术语,结合搜索结果解释如下:
适度(Proper)
指符合特定技术标准的规格参数。在半导体加工中,可能涉及晶圆直径、厚度或纯度等指标达到工艺要求。
圆(Wafer)
源自硅晶片的圆形物理形态。如所述,晶圆原始材料通过提纯后形成圆形硅片,直径常见有8英寸、12英寸等规格。
晶片(Wafer)
指用于制造集成电路的基底材料,即半导体行业所称的“晶圆”。其制造需经过二氧化硅矿石提炼、氯化蒸馏等多道工序,最终纯度高达11个9(99.999999999%)。
该术语特指符合集成电路制造标准规格的圆形硅晶片,常用于芯片生产的前道工序。这类晶片需要满足:
主要出现在半导体工艺文档、设备参数说明等场景,例如光刻机对晶圆载入规格的描述,或芯片代工厂的原料验收标准中。
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