
【計】 proper wafer
appropriate degree; moderation
circularity; cirlce; justify; round; roundness
【化】 circle
【醫】 gyro-
chip; wafer
【電】 chip; crystal plate; wafer
"適度圓晶片"是半導體制造領域中的專業術語,指在晶圓加工過程中通過特定工藝調整形成的非完全圓形結構。該技術主要用于平衡晶片切割效率與材料利用率,其英文對應表述為"moderately rounded wafer"或"optimized elliptical wafer"。
從技術實現角度分析,這種晶片在直徑300mm的标準矽片上,通常保留0.1-0.3mm的邊緣曲率修正量。修正後的幾何形态能有效降低光刻工藝中的邊緣畸變,同時保持約98%的有效使用面積,較傳統圓形晶片提升約5%的材料利用率。
國際半導體技術路線圖(ITRS)将此類技術歸類為先進制造工藝中的邊緣優化方案。美國應用材料公司(Applied Materials)的工藝白皮書顯示,該技術可使28nm制程芯片的良品率提升0.8-1.2個百分點。日本東京電子(TEL)的工程測試數據則證實,適度圓晶片能降低約15%的切割應力集中現象。
在行業标準體系内,SEMI F112-0719規範明确規定了適度圓晶片的曲率公差帶參數。中國半導體行業協會(CSIA)發布的《先進封裝技術發展報告》指出,該技術已在國内12英寸晶圓産線實現規模化應用。
“適度圓晶片”是一個半導體制造領域的專業術語,結合搜索結果解釋如下:
適度(Proper)
指符合特定技術标準的規格參數。在半導體加工中,可能涉及晶圓直徑、厚度或純度等指标達到工藝要求。
圓(Wafer)
源自矽晶片的圓形物理形态。如所述,晶圓原始材料通過提純後形成圓形矽片,直徑常見有8英寸、12英寸等規格。
晶片(Wafer)
指用于制造集成電路的基底材料,即半導體行業所稱的“晶圓”。其制造需經過二氧化矽礦石提煉、氯化蒸餾等多道工序,最終純度高達11個9(99.999999999%)。
該術語特指符合集成電路制造标準規格的圓形矽晶片,常用于芯片生産的前道工序。這類晶片需要滿足:
主要出現在半導體工藝文檔、設備參數說明等場景,例如光刻機對晶圓載入規格的描述,或芯片代工廠的原料驗收标準中。
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