
【計】 substrate type
underlay
【計】 MOS substrate; substrate
genre; run; stamp; style; type
【計】 type
【醫】 Ty.; type
【經】 type
在電子工程與材料科學領域,"襯底類型"(英文:Substrate Type)指制造半導體器件或集成電路時所用基底材料的種類。襯底作為器件結構的物理支撐與電氣性能基礎,其類型直接影響器件性能與工藝兼容性。以下是主要襯底類型及其特性:
最廣泛使用的襯底材料,占半導體市場90%以上。單晶矽(Single-Crystal Si)因其優異的電學特性、成熟的加工工藝和低成本成為主流選擇。根據摻雜類型分為P型(摻硼)和N型(摻磷),電阻率範圍通常為0.001–100 Ω·cm 。
應用場景:邏輯芯片、存儲器、太陽能電池等。
高頻特性優異(電子遷移率是矽的6倍),適用于射頻器件、光電器件。但成本高且機械脆性大 。
寬帶隙(3.4 eV)材料,耐高壓高溫,用于5G基站、快充器件。常以異質外延方式生長在藍寶石或矽襯底上 。
導熱率高(4.9 W/cm·K),適用于大功率器件如電動汽車逆變器。4H-SiC晶型為主流商用類型 。
在矽襯底上嵌入二氧化矽絕緣層(如BOX層),可減少寄生電容,提升器件速度與抗輻照能力。薄膜SOI(厚度<50 nm)用于低功耗處理器 。
化學式為α-Al₂O₃,絕緣性好且耐高溫,主要用于LED外延生長(如GaN基LED)。其晶格失配度約16%,需通過緩沖層優化外延質量 。
權威參考來源:
- 《半導體材料手冊》(Handbook of Semiconductor Materials), Springer出版
- 國際半導體技術路線圖(ITRS)報告
- 《化合物半導體器件物理》(Physics of Compound Semiconductor Devices), Wiley出版社
- 美國材料信息學會(ASM International)技術文獻庫
襯底是材料科學和工程領域的重要概念,通常指作為支撐或基礎層的材料,用于在其表面生長功能材料。根據應用領域的不同,襯底主要分為以下兩種類型:
繪圖襯底
主要用于印刷或設計領域,指将圖片或文字作為底紋鋪滿整個版面。
化工學襯底
常見于半導體、光電子等領域,作為功能材料的基底。這類襯底需滿足結構匹配、熱膨脹系數適配等要求。
半導體材料襯底
氧化物材料襯底
碳化物材料襯底
複合結構襯底
如需更完整的材料列表或技術細節,可參考化工學文獻或半導體行業報告。
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