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超晶格材料英文解釋翻譯、超晶格材料的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯:

【化】 superlattice material; superlattice materials

分詞翻譯:

超的英語翻譯:

exceed; go beyond; overtake
【計】 hyperactive
【醫】 per-; ultra-

晶格的英語翻譯:

crystal lattice
【計】 crystal lattice
【化】 crystal lattice; lattice

材料的英語翻譯:

data; datum; ******s; material; stuff
【醫】 data; datum; material; stock
【經】 material; materials; spoilage

專業解析

超晶格材料(Superlattice Materials)是一種具有周期性人工結構的新型半導體材料,由兩種或多種不同材料的薄層交替堆疊而成,形成原子尺度的規則排列。其名稱中的“超晶格”源于這種結構超越了天然晶體的周期性,實現了更小尺度的能帶調控。以下是詳細解釋:


一、核心定義與結構特征

  1. 漢英對照定義

    • 超晶格 (Superlattice):指兩種晶格常數相近的半導體材料(如GaAs/AlGaAs)通過外延生長技術交替堆疊形成的周期性結構,其周期長度(幾納米至幾十納米)小于電子平均自由程。
    • 材料特性:通過控制層厚和組分,可人工設計量子阱(Quantum Wells)或勢壘(Barriers),實現電子能帶結構的精确剪裁(Bandgap Engineering)。
  2. 結構關鍵參數

    • 周期長度(Periodicity):決定量子受限效應的強度,影響電子/聲子輸運行為。
    • 界面質量:原子級平整界面是維持超晶格量子特性的基礎,需通過分子束外延(MBE)等技術實現。

二、物理機制與獨特性質

  1. 量子限制效應

    電子在超晶格的周期性勢場中運動時,其能帶分裂為子能帶(Sub-bands),導緻:

    • 量子化能級:電子能量離散化,形成類似原子的分立态。
    • 各向異性輸運:電子在平行于層面方向遷移率高,垂直方向呈現量子隧穿特性。
  2. 能帶工程應用

    通過調節層厚/組分,可設計特定能帶結構:

    • Type-I/II/III型能帶對齊:調控載流子(電子/空穴)的空間分布,實現紅外探測、激光發射等功能。
    • 示例:HgTe/CdTe超晶格可實現拓撲絕緣體态。

三、典型應用領域

  1. 光電子器件

    • 量子級聯激光器(QCL):利用子能帶間躍遷發射中紅外至太赫茲波段的相幹光,用于氣體傳感與醫療成像。
    • 紅外探測器:HgCdTe超晶格是高性能紅外焦平面的核心材料。
  2. 低維量子器件

    • 高電子遷移率晶體管(HEMT):基于AlGaAs/GaAs超晶格的二維電子氣(2DEG),實現高速低噪聲微波器件。
    • 拓撲量子計算:超晶格結構可用于構建馬約拉納費米子平台。

四、權威定義參考來源

  1. 學術機構定義

  2. 标準術語庫


說明:以上引用來源為示例性描述,實際引用需替換為具體文獻鍊接(如APS期刊論文DOI、研究所技術報告鍊接等),确保鍊接有效且指向權威機構的一手資料。

網絡擴展解釋

超晶格材料是一種人工設計的周期性層狀結構材料,由兩種或多種不同組分或導電類型的納米級薄層(通常為1-100納米)交替堆疊而成。以下從定義、分類、特性及應用等方面進行詳細解釋:

一、定義與基本概念

超晶格的概念由江崎玲于奈和朱兆祥于1970年提出,其核心是通過分子束外延(MBE)等技術,将不同半導體材料(如GaAs/AlGaAs、Ge-Si/Si等)以嚴格周期性排列形成多層結構。這種結構突破了天然晶體的晶格周期限制,實現電子運動的量子調控。

二、主要分類

  1. 按組成分類

    • 組分超晶格:由不同半導體材料交替堆疊(如GaAs/AlAs),異質界面處能帶不連續。
    • 摻雜超晶格:同一材料通過交替摻雜(如n型/p型Si)形成周期性電勢場。
  2. 按能帶對準方式分類

    • Ⅰ型:窄帶材料的禁帶完全嵌入寬帶材料中(如GaAs/AlGaAs)。
    • Ⅱ型:導帶和價帶分别位于不同材料層(如InAs/GaSb)。
    • Ⅲ型:涉及半金屬材料,帶隙可調至零或負值。

三、核心特性

  1. 量子尺寸效應:電子在納米薄層中受限,能級分裂顯著,增強電子遷移率和光電性能。
  2. 可調諧性:通過調整層厚、組分或摻雜,可精确調控帶隙、載流子濃度等參數。
  3. 界面效應:異質界面處的能帶突變可形成二維電子氣,適用于高頻器件。

四、制備技術

主要采用分子束外延(MBE)、金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)等高精度工藝,實現原子級厚度控制。

五、典型應用

  1. 光電子器件:如量子阱激光器、紅外探測器。
  2. 高頻電子器件:高電子遷移率晶體管(HEMT)、彈道晶體管。
  3. 量子計算材料:用于構建量子點、拓撲絕緣體等新型結構。

參考資料

如需更完整的分類或技術細節,可參考搜狗百科和豆丁網的權威解析。

分類

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