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薄膜淀积英文解释翻译、薄膜淀积的近义词、反义词、例句

英语翻译:

【计】 thin-film deposition

分词翻译:

薄膜的英语翻译:

film; membrane; pellicle
【计】 thin membrane; thin-film
【医】 film

淀的英语翻译:

form sediment; settle; shallow lake

积的英语翻译:

accumulate; amass; long-standing; product; store up
【医】 product

专业解析

薄膜淀积(Thin Film Deposition)是电子工程与材料科学领域的核心工艺技术,指在基底表面通过物理或化学方法沉积纳米至微米级厚度的均匀材料层。该术语由"薄膜"(thin film,厚度<1μm)和"淀积"(deposition,物质从气相或液相向固相转移的过程)构成。

根据《半导体制造手册》(第3版),薄膜淀积技术主要分为三类:

  1. 物理气相沉积(PVD):利用热蒸发或溅射实现金属薄膜制备,如铝电极层沉积
  2. 化学气相沉积(CVD):通过气态前驱体化学反应生成介质膜,典型应用包括SiO₂绝缘层沉积
  3. 原子层沉积(ALD):逐层自限制反应形成超薄均质膜,适用于FinFET器件的high-k介质制备

国际半导体产业协会(SEMI)2024年报告指出,该技术在集成电路制造中直接影响器件性能参数,包括导通电阻、介电常数和热稳定性。在光伏领域,薄膜太阳能电池的转换效率已突破23%(NREL数据),其核心工艺即依赖精密控制的大面积CVD技术。

网络扩展解释

薄膜淀积是一种在固体表面或界面形成薄膜的技术,主要应用于半导体、光学、电子等领域。以下是详细解释:

1.定义与原理

薄膜淀积指通过物理或化学方法,将材料以单层或多层形式均匀或非均匀地沉积到基底(如硅片)表面的过程。其核心目标是在基底上形成具有特定功能的薄膜,如导电层(金属、多晶硅)或绝缘层(二氧化硅、氮化硅)。

2.主要分类

3.应用领域

4.技术特点

5.词源补充

“淀积”一词源于地质学,指物质在液体中沉淀积聚的过程,后借用于描述薄膜形成技术。

如需更深入的分类或工艺流程说明,可参考来源网页(如的PPT课件)。

分类

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