
【计】 integration level
在电子工程领域,"集成度"(Integration Degree)指单个集成电路(IC)芯片上容纳的电子元件(如晶体管、电阻等)的数量密度,是衡量芯片制造技术水平的核心指标。其英文对应术语为Level of Integration 或Integration Density,通常通过单位面积内的元件数量或单个芯片的总元件数来量化。
元件密度标准
集成度直接反映芯片的微型化程度,常用"晶体管数/平方毫米"或"晶体管数/芯片"表示。例如,现代处理器芯片的集成度可达数十亿晶体管级别(来源:IEEE标准术语库)。
技术演进分级
根据元件规模分为:
(分级标准参考:Encyclopedia of Electronic Components)
高集成度芯片通过缩小元件间距实现:
(工业案例参考:IEEE Xplore: VLSI Design Trends)
"Integration density: a measure of the number of electronic components per unit area on an integrated circuit."
"The level of integration quantifies functional complexity achieved through semiconductor fabrication scaling."
技术注释:摩尔定律(Moore's Law)描述了集成度约每18-24个月翻倍的趋势,驱动半导体产业持续创新。当前3nm/2nm制程工艺的突破进一步将晶体管密度推向物理极限(来源:IEEE Spectrum)。
集成度是一个多领域通用的概念,其核心含义在不同场景下有具体差异,以下是综合解释:
在集成电路领域,集成度指单块芯片上容纳的电子元件(如晶体管、电阻、电容)数量。集成度越高,芯片内元件密度越大,通常通过缩小最小线条宽度实现,例如当前主流技术已达到纳米级工艺。
衡量指标
提升方法
需改进光刻技术以提高分辨率,例如采用极紫外光刻(EUV)等先进工艺。
系统工程
指子系统划分的规模,高集成度系统计算简单但信息量少,低集成度模型复杂但分析更彻底。
软件工程
表现为模块间的整合程度,高集成度软件各组件协同效率更高。
遵循摩尔定律,即集成电路元件数量每18-24个月翻一番。例如: $$ text{集成度增长率} = frac{ln 2}{ln (1.5)} approx 1.58 text{年/倍} $$
需根据实际需求平衡:
(注:更多技术细节可参考搜狗百科和创梦网络的完整内容)
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