
【计】 transistor deterioration
transistor
【计】 MOS transistor; npn
【化】 transistor
【化】 degradation
【医】 degradation
晶体管劣化(Transistor Degradation)的汉英词典解释与工程分析
一、术语定义
晶体管劣化(晶体管劣化,Transistor Degradation)指半导体器件在长期工作或极端条件下,其电学性能(如阈值电压、载流子迁移率、开关速度等)逐渐衰退的现象。该过程属于非灾难性失效,表现为参数漂移而非突发性功能丧失,区别于完全损坏(Failure)。英文术语中,"Degradation"强调性能的渐进式衰减,与"Failure"(完全失效)形成技术区分。
二、劣化成因与机制
高电场下,载流子获得过量动能注入栅氧层,导致界面态增加,引发阈值电压((V_{th}))漂移和跨导((g_m))下降。
PMOS晶体管在高温负偏压条件下,栅氧层/硅界面产生缺陷,造成 (V_{th}) 正向漂移和驱动电流降低。
大电流密度导致金属互连线原子迁移,引起接触电阻升高或开路。
三、表现与影响
四、检测与缓解措施
权威参考文献
注:引用来源为行业标准组织、经典教材及权威期刊,链接经核实有效(截至2025年)。
晶体管劣化(transistor deterioration)是指晶体管在长期使用或极端工作条件下,其电学性能逐渐下降的现象。这种现象可能由多种因素引起,主要包括:
氧化物俘获效应
根据麻省理工学院的研究,InGaAs晶体管在小规模应用中出现的性能劣化,主要与氧化物俘获有关。当电子通过晶体管时,会被氧化物层中的缺陷“捕获”,导致载流子迁移率降低,从而影响开关速度和导电效率。
材料老化
长期承受高电压或大电流时,晶体管内部材料会发生物理/化学变化,例如电极金属迁移、半导体晶格损伤等,导致漏电流增加或阈值电压漂移。
热应力影响
高温工作环境会加速材料退化,特别是功率晶体管中,局部热点可能引发热载流子注入效应,进一步加剧性能衰减。
这种现象的后果包括电路响应速度降低、功耗异常升高,甚至引发设备故障。值得注意的是,最新研究表明某些材料的劣化并非其固有特性,而是可通过优化制造工艺(如改进氧化物层质量)来缓解。
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