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净掺杂英文解释翻译、净掺杂的近义词、反义词、例句

英语翻译:

【计】 net doping

分词翻译:

净的英语翻译:

clean; completely; net; only
【经】 net

掺杂的英语翻译:

*****erate; *****eration; intermingle
【计】 doping
【化】 *****eration; dope; doping
【医】 *****eration

专业解析

在半导体物理与器件工程领域,"净掺杂"(Net Doping)指半导体材料中有效活性杂质浓度的净平衡值。其核心含义和要点如下:


一、基础定义与中英对照

  1. 汉语定义

    净掺杂指施主杂质(Donor)浓度 (N_D) 与受主杂质(Acceptor)浓度 (NA) 的代数差,即 (N{text{net}} = |N_D - N_A|)。它决定了半导体的导电类型(N型或P型)和载流子浓度。

    来源:IEEE电子器件学会术语标准(IEEE EDS Glossary)。

  2. 英文对应术语

    • Net Doping: 直接对应"净掺杂",强调有效掺杂浓度的净效应。
    • Effective Doping Concentration: 突出其对电学特性的实际影响。

      来源:SEMI(国际半导体产业协会)标准术语库。


二、技术原理与物理意义

  1. 导电类型决定

    • 若 (N_D > N_A),净掺杂为正,材料为N型,多子为电子;
    • 若 (N_A > N_D),净掺杂为负,材料为P型,多子为空穴。

      公式表达:

      $$ n approx N_D - N_A quad text{(N型)} p approx N_A - N_D quad text{(P型)} $$

      来源:《半导体器件物理》(施敏著,第4章)。

  2. 载流子浓度控制

    净掺杂浓度直接影响费米能级位置、载流子迁移率及器件阈值电压。例如,MOSFET中沟道区的净掺杂浓度决定其开启电压。

    来源:IEEE Transactions on Electron Devices(Vol. 65, Issue 3)。


三、工程应用与测量方法

  1. 工艺关键参数

    在离子注入或扩散工艺中,需精确控制净掺杂浓度以调节器件性能。典型值范围:(10^{15} text{ cm}^{-3})(低功耗器件)至 (10^{18} text{ cm}^{-3})(高频器件)。

    来源:国际半导体技术路线图(ITRS 2015 Edition)。

  2. 测量技术

    • 四探针法:通过电阻率反算净掺杂浓度;
    • CV profiling:利用电容-电压特性提取掺杂分布。

      来源:《半导体材料表征技术》(Schroder著,第7章)。


掺杂类型对净值的影响(对比)

掺杂类型 对净掺杂的贡献 典型杂质举例
施主(Donor) 增加正值(N型) 磷(P)、砷(As)
受主(Acceptor) 增加负值(P型) 硼(B)、镓(Ga)
补偿掺杂(补偿效应) 降低净绝对值 同时注入P和B

来源:美国国家标准与技术研究院(NIST)半导体手册。

网络扩展解释

“净掺杂”是材料科学和半导体物理领域的术语,主要指材料中有效掺杂浓度的净值,通常用于描述半导体中载流子的浓度差异。以下是详细解释:

1.基本定义

净掺杂指材料中施主杂质(提供自由电子的掺杂)与受主杂质(提供空穴的掺杂)的浓度差值。公式为: $$ N_{text{净}} = N_d - N_a $$ 其中,$N_d$为施主浓度,$Na$为受主浓度。若$N{text{净}}>0$,材料呈N型导电;若$N_{text{净}}<0$,则为P型导电。

2.应用场景

3.与普通“掺杂”的区别

4.示例

若硅中掺入磷(施主,浓度$1×10^{17} text{cm}^{-3}$)和硼(受主,浓度$5×10^{16} text{cm}^{-3}$),则净掺杂浓度为$5×10^{16} text{cm}^{-3}$,材料为N型。


注:以上解释综合了“掺杂”的基础概念(来自)及半导体领域的扩展含义。若需更专业的公式推导或实验数据,建议参考半导体物理相关文献。

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