
【计】 net doping
clean; completely; net; only
【经】 net
*****erate; *****eration; intermingle
【计】 doping
【化】 *****eration; dope; doping
【医】 *****eration
在半导体物理与器件工程领域,"净掺杂"(Net Doping)指半导体材料中有效活性杂质浓度的净平衡值。其核心含义和要点如下:
汉语定义
净掺杂指施主杂质(Donor)浓度 (N_D) 与受主杂质(Acceptor)浓度 (NA) 的代数差,即 (N{text{net}} = |N_D - N_A|)。它决定了半导体的导电类型(N型或P型)和载流子浓度。
来源:IEEE电子器件学会术语标准(IEEE EDS Glossary)。
英文对应术语
来源:SEMI(国际半导体产业协会)标准术语库。
导电类型决定
公式表达:
$$ n approx N_D - N_A quad text{(N型)} p approx N_A - N_D quad text{(P型)} $$
来源:《半导体器件物理》(施敏著,第4章)。
载流子浓度控制
净掺杂浓度直接影响费米能级位置、载流子迁移率及器件阈值电压。例如,MOSFET中沟道区的净掺杂浓度决定其开启电压。
来源:IEEE Transactions on Electron Devices(Vol. 65, Issue 3)。
工艺关键参数
在离子注入或扩散工艺中,需精确控制净掺杂浓度以调节器件性能。典型值范围:(10^{15} text{ cm}^{-3})(低功耗器件)至 (10^{18} text{ cm}^{-3})(高频器件)。
来源:国际半导体技术路线图(ITRS 2015 Edition)。
测量技术
来源:《半导体材料表征技术》(Schroder著,第7章)。
掺杂类型 | 对净掺杂的贡献 | 典型杂质举例 |
---|---|---|
施主(Donor) | 增加正值(N型) | 磷(P)、砷(As) |
受主(Acceptor) | 增加负值(P型) | 硼(B)、镓(Ga) |
补偿掺杂(补偿效应) | 降低净绝对值 | 同时注入P和B |
来源:美国国家标准与技术研究院(NIST)半导体手册。
“净掺杂”是材料科学和半导体物理领域的术语,主要指材料中有效掺杂浓度的净值,通常用于描述半导体中载流子的浓度差异。以下是详细解释:
净掺杂指材料中施主杂质(提供自由电子的掺杂)与受主杂质(提供空穴的掺杂)的浓度差值。公式为: $$ N_{text{净}} = N_d - N_a $$ 其中,$N_d$为施主浓度,$Na$为受主浓度。若$N{text{净}}>0$,材料呈N型导电;若$N_{text{净}}<0$,则为P型导电。
若硅中掺入磷(施主,浓度$1×10^{17} text{cm}^{-3}$)和硼(受主,浓度$5×10^{16} text{cm}^{-3}$),则净掺杂浓度为$5×10^{16} text{cm}^{-3}$,材料为N型。
注:以上解释综合了“掺杂”的基础概念(来自)及半导体领域的扩展含义。若需更专业的公式推导或实验数据,建议参考半导体物理相关文献。
氨酰心安包罗众多的钡氧水并行微操作程序员工作台除锈剂电子给体受体络合物多能熟练工浮点截断副审计长固定成本类海外分店减压铸造基尔希内氏憩室接收支路紧张部极向量逻辑模拟脉搏后期门反相存储器平行曲柄机构普莫卡因人工授精融合性荨麻疹试镜箱数组乘法天性体温调节的推挽放大