
【电】 field-ion microscope; ion microscope
场离子显微镜(Field Ion Microscope,简称FIM)是一种基于场致电离原理的高分辨率显微成像技术,主要用于观察金属和半导体材料表面的原子级结构。其核心原理是通过施加高强度电场(通常达数伏特/埃量级),使吸附在针尖状样品表面的惰性气体原子(如氦或氖)发生电离,电离后的离子沿电场线运动至探测器,形成反映样品表面原子排列的投影图像。
该仪器由以下关键组件构成:
历史文献显示,场离子显微镜由德国物理学家Erwin Müller于1951年率先实现原子级分辨率(《Physical Review》第82卷),这一突破使人类首次直接观察到钨晶体表面的原子排列。在材料科学领域,该技术被广泛应用于晶界结构分析、表面扩散研究和纳米材料表征(宾夕法尼亚州立大学材料研究所2018年技术报告)。
需注意其两大局限性:样品制备需满足高强度场下不熔化的条件(仅限于高熔点金属如钨、铂),且动态过程观测受限于单次成像需数分钟的特点(《表面分析技术手册》第三版,Springer出版)。
场离子显微镜(Field Ion Microscope, FIM)是一种能够直接观察材料表面原子排列的高分辨率显微仪器。以下是其核心特点和工作原理的详细解释:
场离子显微镜由E.W. Müller于20世纪50年代发明,是最早实现原子级分辨率(约0.2-0.3纳米)的显微镜。它通过成像气体的“场电离”过程生成图像,无需传统磁或静电透镜。
如需进一步了解技术参数或历史发展,可参考搜狗百科()及道客巴巴等来源。
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