
【计】 scanning beam; sweeping beam
扫描电子束(Scanning Electron Beam)是电子光学领域的关键技术术语,指通过电磁场控制的高能电子束在样品表面进行逐点扫描的物理过程。该技术广泛应用于扫描电子显微镜(SEM),其核心原理为:电子枪发射的电子经加速电压作用形成束流,经电磁透镜聚焦后,以光栅扫描模式轰击样品表面,激发出二次电子、背散射电子等信号,最终通过探测器成像。
从功能特性看,扫描电子束具备三要素:
在工业标准层面,中国国家标准GB/T 30537-2019《微束分析 扫描电子显微镜能谱仪定量分析通则》明确规定了扫描电子束的技术参数范围及检测方法。国际权威期刊《Ultramicroscopy》2023年的研究指出,现代场发射扫描电子束的分辨率已突破0.4 nm,较传统钨灯丝技术提升近10倍。
该技术的应用延伸至:
“扫描电子束”是电子技术中的一个复合概念,需要从“扫描”和“电子束”两个角度综合解释:
扫描指通过电子束、无线电波等载体,按照特定路径在水平或垂直方向移动的过程。常见于以下场景:
电子束是由阴极产生的电子在高压电场(25-300kV)下加速形成的高速密集电子流,速度可达光速的0.3-0.7倍。其特点包括:
在电子束CT等设备中,扫描电子束的具体工作流程为:
扫描频率可通过以下公式计算: $$ f = frac{1}{T} $$ 其中,$T$为电子束完成一次完整扫描的时间周期。
注:以上内容综合了电子束的物理特性和扫描技术原理,适用于材料分析、医学成像等领域。
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