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metalization是什么意思,metalization的意思翻译、用法、同义词、例句

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常用词典

  • n. 金属化;金属镀层

  • 例句

  • The metalization process is used to chrome plate plastic for a variety of USES.

    这一金属镀层过程对铬掩模塑料有非常广泛的作用。

  • 专业解析

    在电子工程和半导体制造领域,metalization(金属化) 是一个核心工艺步骤,指在半导体器件(如集成电路芯片)的绝缘层表面或特定区域沉积一层导电金属薄膜,并形成特定互连图形的过程。其主要目的是为晶体管、电阻、电容等元器件之间建立导电路径,实现电信号的传输和连接。

    其核心含义和关键点包括:

    1. 形成互连结构:

      • 这是金属化的首要功能。通过在芯片表面沉积金属层并光刻刻蚀出精细图形,将芯片上各个独立的元器件(源极、漏极、栅极等)按照电路设计要求连接起来,构成完整的电路功能。这相当于芯片内部的“布线”。
    2. 材料选择:

      • 常用的金属化材料需要具备低电阻率(减小信号传输损耗)、良好的附着性(与下层材料结合牢固)、易于沉积和图形化、抗电迁移能力强(在高电流密度下不易断裂)等特性。
      • 历史上铝(Al)及其合金(如Al-Si, Al-Cu)是最主流的金属化材料。随着技术发展,铜(Cu)因其更低的电阻率和更好的抗电迁移性能,在先进工艺节点中已成为主流(通常需要搭配扩散阻挡层如Ta/TaN)。 其他材料如钨(W)常用于接触孔填充(接触塞)。
    3. 工艺技术:

      • 金属薄膜的沉积通常采用物理气相沉积(PVD,如溅射)或化学气相沉积(CVD)技术。
      • 形成互连图形则需要结合光刻(Photolithography)和刻蚀(Etching,干法刻蚀为主)工艺。先涂覆光刻胶、曝光显影形成图形掩模,然后刻蚀掉未被掩模保护的金属,最后去除光刻胶,得到所需的金属互连线。
    4. 多层结构:

      • 现代集成电路极其复杂,单层金属布线无法满足连接需求。因此需要采用多层金属化(Multi-Level Metalization, MLM) 技术。在相邻金属层之间沉积绝缘层(介质层,如SiO₂或低k介质),并通过通孔(Via) 实现上下层金属之间的垂直互连。通孔填充通常使用钨或铜。
    5. 关键挑战:

      • 阶梯覆盖(Step Coverage): 金属需要在有高低起伏的表面(如前层金属图形或接触孔)上均匀覆盖,避免断裂或过薄。
      • 电迁移(Electromigration): 电流流过金属导线时,电子动量传递可能导致金属原子迁移,最终形成空洞(断路)或小丘(短路),是影响互连线可靠性的主要因素。
      • 寄生效应: 随着线宽缩小和密度增加,金属线间的寄生电容和电阻(RC延迟)成为限制芯片速度的关键因素,推动了对低电阻率金属(铜)和低介电常数(低k)介质材料的需求。
      • 接触电阻(Contact Resistance): 金属与半导体(如硅)接触处的电阻需要尽量降低,以确保信号有效传输。

    Metalization是半导体制造中构建芯片内部“神经系统”的关键工艺,涉及在绝缘基底上沉积、图形化导电金属层,以形成连接数百万乃至数十亿晶体管的互连网络。其材料选择、工艺实现和多层结构设计直接决定了芯片的性能、功耗和可靠性。

    权威参考来源:

    网络扩展资料

    metalization(或拼写为metallization)是一个技术术语,主要含义和用法如下:

    1.基本定义

    2.翻译差异

    3.应用领域

    4.相关词汇

    5.发音与拼写

    若需了解具体工艺或行业标准,建议参考材料科学或电子工程领域的专业资料。

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