
n. 雙彭甯源裝置;[核] 雙彭甯離子規源
IS-A type 10cm duopigatron ion source that was made for heating plasma In the HT-6M Tokamak has high current, high power and high proton composition.
為加熱HT-6M托卡馬克等離子體而研制的IS-A十厘米雙潘甯離子源具有強流、大功率、高質子比等特點。
Duopigatron 是一種特定類型的離子源裝置,主要用于早期的核聚變研究和高功率離子束産生領域。
其核心含義和工作原理如下:
Duopigatron 是一種曆史性的、基于雙 Pigatron 單元組合的離子源,主要用于早期核聚變研究中的高功率中性束注入系統,其核心功能是産生用于加熱聚變等離子體的高流強離子束。
關于引用來源的說明:
由于 "Duopigatron" 是一個非常專業且相對早期的術語,主要出現在特定曆史時期的科技文獻和報告中,公開可自由訪問的網絡資源中詳細介紹它的資料極其有限。權威性的信息通常收錄在專業的學術期刊、會議論文集或技術報告檔案中。
"duopigatron" 是一個專業術語,主要在物理和工程領域使用,其含義和用法如下:
核心釋義
"duopigatron" 指代一種名為雙潘甯離子源(或譯作雙彭甯離子規源)的裝置。該術語由 "duo"(雙)和 "PIGatron"(潘甯離子源)組合而成,屬于複合詞。
技術背景
該裝置屬于離子源 類型,通過潘甯放電原理(Penning discharge)産生高密度等離子體,常用于粒子加速器、核聚變實驗等需要穩定離子束的場景。
發音與拼寫
使用場景
該詞屬于高度專業化詞彙,常見于以下領域文獻:
補充說明
在法語詞典中,"duopigatron" 被列為鄰近詞條,但未提供額外釋義,表明其使用範圍可能更集中于英語科技文獻。
如需進一步了解具體技術參數或應用案例,可參考物理工程領域的專業資料或詞典來源(如、)。
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