硅化钒英文解释翻译、硅化钒的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【化】 vanadium silicide

分词翻译：

硅的英语翻译：

silicon
【医】 Si; silicium; silicon

化的英语翻译：

burn up; change; convert; melt; spend; turn

钒的英语翻译：

vanadium
【医】 v; vanadium

专业解析

硅化钒 (guī huà fán) 是一种重要的钒硅二元化合物，在材料科学和工业领域具有特定应用。其英文对应术语为Vanadium Silicide。

详细解释：

化学本质与组成：
- 硅化钒是由化学元素钒 (Vanadium, V) 和硅 (Silicon, Si) 通过化学键结合形成的金属间化合物 (Intermetallic Compound)。
- 它并非指代单一化合物，而是代表一系列具有不同钒硅原子比例的化合物。其中最常见、最具代表性的是VSi₂ (二硅化钒) 和V₃Si (三硅化钒)。
- 分子式示例：
  - VSi₂ (Vanadium Disilicide)
  - V₃Si (Vanadium Trisilicide)
结构与性质：
- 晶体结构：不同的硅化钒具有特定的晶体结构。例如，V₃Si 具有 A15 立方晶体结构（与某些超导体如 Nb₃Sn 相同），而 VSi₂ 则通常具有六方（C40）或四方晶体结构。
- 物理性质：硅化钒通常表现出高熔点、高硬度、良好的化学稳定性和抗氧化性。这些特性使其能在高温和恶劣环境下保持性能。
- 电学性质：某些硅化钒（如 V₃Si）在极低温下表现出超导性。VSi₂ 因其较低的电阻率和良好的热稳定性，常被研究用作集成电路中的接触材料和互连材料。
- 化学稳定性：它们对许多酸、碱具有较好的耐腐蚀性，尤其是在高温下仍能保持稳定。
主要应用领域：
- 高温结构材料：利用其高熔点、高强度和抗氧化性，用于航空航天、燃气轮机等高温部件。
- 集成电路 (IC)： VSi₂ 因其合适的电阻率、良好的硅化物形成特性以及与硅工艺的兼容性，曾被研究或用作接触材料（Contact Material）和栅极材料（Gate Material），用于连接半导体器件中的硅与金属互连线，降低接触电阻。虽然现代先进工艺中钴、镍硅化物更常用，但钒硅化物在特定历史时期或领域有应用。
- 涂层材料：其高硬度和耐磨性使其可用于耐磨、耐腐蚀涂层。
- 超导材料： V₃Si 是重要的 A15 结构超导体之一，在低温物理和超导磁体研究中具有价值。
- 合金添加剂：作为添加剂用于改善某些合金的性能。

来源说明：由于搜索结果未能提供可直接引用的具体在线词典或权威材料科学数据库链接，本解释基于公认的材料科学知识、化学术语标准以及硅化物在半导体工艺中的应用背景进行综合阐述。核心信息参考了标准化学术语、材料科学教科书及半导体器件制造相关文献中关于金属硅化物的普遍描述。例如，关于硅化物在集成电路中的应用，可参考半导体器件物理和工艺制程方面的权威著作（如 S. M. Sze 的著作）或行业标准（如 IEEE 或 SEMI 标准）。关于 V₃Si 的超导性，可查阅超导物理的标准教材或文献（如《Introduction to Superconductivity》 by Michael Tinkham）。

网络扩展解释

硅化钒是钒与硅形成的金属间化合物，其具体性质因结构不同而有所差异。以下是综合多个来源的详细信息：

一、基本性质

化学式与结构
- 存在两种常见形式：V₃Si（三硅化钒）和VSi₂（二硅化钒）。
- 分子式分别为：
  - V₃Si：分子量约180.91
  - VSi₂：分子量约107.11
物理性质
- 密度：V₃Si为5.7 g/cm³，VSi₂为4.42 g/cm³（、3）。
- 熔点：V₃Si的熔点高达1935°C（），其他形式数据暂缺。
CAS号差异
- V₃Si对应CAS号：12039-76-8（、3）。
- VSi₂对应CAS号：12039-87-1（、6）。

二、应用与生产

工业用途
- 主要用于高温材料和半导体领域（）。
- 部分型号（如V₃Si）可能用作溶剂蓝104等染料成分（）。
生产与纯度
- 高纯度产品可达99.9%（），常见包装规格为1kg~25kg（、7）。

三、注意事项

数据差异：不同来源的密度、CAS号差异可能源于化合物结构不同，需根据具体需求选择对应型号。
权威参考：建议优先参考高权威性来源（如）确认物性参数。

如需更详细的技术参数或采购信息，可查阅化源网、960化工网等来源。