蝕刻劑；蝕刻溶液
The new method of producing basic copper carbonate from waste etching solution containing copper.
介紹了利用含銅蝕刻廢液合成堿式碳酸銅的新工藝。
Nanometer copper powders were prepared from acidic waste etching solution containing copper using hydrazine hydrate as a reductive agent.
以酸性蝕刻廢液為銅源，*********為還原劑，采用液相還原法制備納米銅粉。
The invention relates to a surface treatment method of plastic components, comprising the following steps: providing an inkjet device housing etching solution inside;
本發明涉及一種塑膠元件表面處理方法，該方法包括：提供一噴墨裝置， 該噴墨裝置内收容有蝕刻溶液；
The working principle, characteristics and application status and trend of a new type of centrifugal extractor in alkaline etching solution recycling were introduced.
介紹了新型離心萃取機的工作原理、特點及其在堿性蝕刻液再生循環中的應用狀況及前景。
Some introductions are conducted on the production techniques, technical characteristics, flows and quality of products in the copper recovery from the waste etching solution.
介紹了利用含銅蝕刻廢液回收銅的生産工藝、技術特點、工藝流程和産品質量。
|etchant;蝕刻劑；蝕刻溶液
蝕刻溶液（etching solution）是一種用于在材料表面通過化學或電化學作用形成特定圖案或紋理的液體試劑。該技術廣泛應用于微電子制造、印刷電路闆（PCB）加工、金屬精飾及藝術創作等領域。
在微電子工業中，蝕刻溶液通過選擇性溶解材料表層的特性，實現芯片電路結構的精确加工。例如，氫氟酸（HF）溶液常用于矽晶圓的二氧化矽層蝕刻，而磷酸（H₃PO₄）與硝酸（HNO₃）混合液則用于鋁導線的圖形化處理。其化學反應可表示為： $$ text{SiO}_2 + 6text{HF} → text{H}_2text{SiF}_6 + 2text{H}_2text{O} $$
金屬加工領域常用三氯化鐵（FeCl₃）溶液進行銅、不鏽鋼等材料的蝕刻。這種溶液通過氧化還原反應溶解金屬，反應方程式為： $$ text{Fe}^{3+} + text{Cu} → text{Fe}^{2+} + text{Cu}^{2+} $$ 該工藝被美國材料與試驗協會（ASTM）列為标準金屬表面處理方法。
在安全規範方面，職業安全與健康管理局（OSHA）要求操作人員必須配備防腐蝕護具，并确保工作場所通風系統符合29 CFR 1910.1200标準。藝術創作中使用的蝕刻溶液多采用較溫硝酸銅配方，既能實現銅版畫效果，又降低毒性風險。
“etching solution”是化學蝕刻工藝中使用的腐蝕性溶液，主要用于在金屬、玻璃等材料表面形成精細圖案或去除特定部分。以下是詳細解釋：
基本定義
etching solution指通過化學腐蝕實現蝕刻的液體試劑，通常由酸、氧化劑或堿性物質組成。該術語常見于工業制造（如電路闆加工）和藝術創作（如版畫制作）領域。
主要成分
應用場景
技術特點
相關術語
提示：更多專業應用案例可參考關于印刷電路闆蝕刻液的工業處理流程。
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