英:/'ɪlɪp'sɒmɪtrɪ/ 美:/'ɪlepˈsɑːmətrɪ/
n. 橢圓對稱；橢圓光度法，[光] 橢圓測量術
The measuring condition for principle Angle in spectroscopic ellipsometry is analyzed.
對橢圓偏振光譜中的主角測量條件進行了分析。
Paints quality, Plastics, Polymer, Optical Brighteners and Phosphor Coatings ( Ellipsometry )
油漆質量，塑料，聚合物，熒光增白劑和磷塗層（橢圓偏振儀）
Accurate measurement of its retardation by ellipsometry prove the rationality of its structure design.
橢偏術對其相延測量的實驗結果，驗證了這種波片結構設計的合理性。
A ****** method using spectroscopic ellipsometry to measure uniaxial liquid crystal layer is introduced.
探讨了利用普通光譜型橢偏儀對各向異性液晶層進行綜合性測量的可行性。
The structure of the laser crystallized poly-Si thin film is analyzed by using spectroscopic ellipsometry.
采用橢偏光譜法分析了薄膜的結構，并提出多層膜模型模拟薄膜結構。
橢偏儀（Ellipsometry）是一種基于偏振光分析的非破壞性光學測量技術，主要用于表征材料表面的光學特性與微觀結構。其核心原理是通過測量偏振光在樣品表面反射或透射後偏振狀态的變化，推導出材料的複折射率、薄膜厚度、粗糙度等參數（美國國家标準與技術研究院，NIST）。該技術對納米級薄膜的靈敏度可達亞埃級别，因此在半導體、光學鍍膜、生物傳感等領域具有重要應用（國際光學工程學會，SPIE）。
橢偏儀的工作機制基于菲涅爾方程和麥克斯韋方程組。當線偏振光以特定角度入射時，樣品引起的p偏振光與s偏振光的振幅比（Ψ）和相位差（Δ）會發生變化。通過建立這兩個參數與材料屬性的數學關系模型，可精确解算待測參數（光學學會，OSA）。現代橢偏儀已發展出光譜型、成像型等多種變體，其中光譜橢偏儀可覆蓋紫外到紅外波段，實現寬光譜範圍内的材料特性分析（《應用表面科學》期刊）。
該技術的核心優勢在于其非接觸測量特性與高精度量化能力。例如在芯片制造中，橢偏儀可實時監測晶圓表面氧化層厚度，控制精度優于0.1納米。在生物醫學領域，可通過測量抗體-抗原結合引起的折射率變化進行無标記檢測（《材料表征手冊》，Elsevier）。
ellipsometry（橢圓光度法）是一種用于測量材料表面光學特性的精密技術，以下是詳細解釋：
詞源與發音
核心定義 指通過分析偏振光在材料表面反射或透射後形成的橢圓偏振态變化，來測定薄膜厚度、光學常數（如折射率、消光系數）等參數的技術。中文常見譯法包括：
典型應用領域
技術優勢 相比傳統光學測量，可非破壞性獲取亞納米級精度數據，特别適合透明/半透明薄膜分析。
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