间隙缺陷英文解释翻译、间隙缺陷的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【化】 interstitial defect

分词翻译：

间隙的英语翻译：

clear; clearance; gap; interval; space
【化】 back lash; clearance; gap; play; slack
【医】 clearance; diastem; diastema; interspace; space; spatia; spatium

缺陷的英语翻译：

blemish; bug; defect; drawback; flaw; limitation; objection; vice
【化】 imperfection
【医】 defect; vitium
【经】 defective

专业解析

间隙缺陷（Interstitial Defect）是材料科学中的重要概念，指晶体结构中原子脱离正常晶格位置，进入晶格间隙（空隙）形成的点缺陷。以下是汉英双解视角的详细解释：

一、汉英术语定义

中文：间隙缺陷
指晶体中外来原子或自身原子嵌入晶格间隙位置，导致局部晶格畸变的现象。

英文：Interstitial Defect
An atomic imperfection where an atom occupies aninterstitial site (space between regular lattice positions), distorting the crystal structure.

二、核心特征与形成机制

间隙原子来源
- 外来原子（如碳、氮等小半径原子嵌入金属晶格）
- 自身原子因热振动或辐照脱离原位，挤入间隙（如硅晶体中的自间隙原子）
结构影响
- 导致周围晶格弹性畸变，增大材料内能
- 与空位（Vacancy Defect）共同构成点缺陷的主要类型，但间隙原子尺寸需小于晶格间隙（如BCC金属中常见）

三、与空位缺陷的对比

特征	间隙缺陷	空位缺陷
原子位置	原子位于晶格间隙	晶格位置缺失原子
形成能	较高（需克服晶格挤压能垒）	较低
对密度影响	略微增加密度	略微降低密度
常见材料	碳钢（C原子嵌入Fe晶格）	高温金属、半导体

四、实际影响与应用

材料性能
- 强化机制：间隙原子（如钢中的C/N）钉扎位错，提升硬度和强度（固溶强化）
- 扩散行为：加速原子扩散路径，影响热处理工艺（如渗碳）
半导体领域
- 硅中的自间隙原子可能形成复合缺陷，改变电导率

权威参考文献

Callister, W. D., & Rethwisch, D. G. Materials Science and Engineering: An Introduction（材料科学与工程基础）
Kittel, C. Introduction to Solid State Physics（固体物理导论）
冯端, 师昌绪. 《材料科学基础》. 科学出版社.

（注：因搜索结果未提供可验证链接，此处仅标注经典教材来源以确保权威性。）

网络扩展解释

间隙缺陷是材料科学和晶体学中的概念，指晶体结构中原子或离子脱离正常晶格位置进入间隙位置形成的结构缺陷。具体解释如下：

基本定义
当体积较小的原子或离子进入晶格间隙时，会形成间隙缺陷。例如在AgCl晶体中，银离子（Ag⁺）可能占据间隙位置，记作$text{Ag}_i^·$，其中下标$i$表示间隙位置，右上角符号表示有效电荷（此处为+1）。
符号表示规则
间隙缺陷的符号格式为$M_i^{c}$，其中：
- $M$：间隙原子种类（如Ag、Ni等）
- $i$：表示间隙位置
- $c$：有效电荷（正电荷用$cdot$，负电荷用$'$，多个电荷叠加表示）
形成条件
主要发生在晶体含有尺寸较小的原子或离子时，例如：
- 金属晶体中碳原子进入铁晶格间隙形成奥氏体
- 离子晶体中半径较小的Li⁺进入TiO₂晶格间隙
相关概念区分
- 段差：模具加工中的匹配偏差，与材料缺陷无关
- 隙缺：泛指一般性缺陷或不完备状态，不特指晶体结构

这类缺陷会显著影响材料的导电性、机械强度等性质，是半导体和合金设计中的重要研究内容。