
【电】 giant grid
accumulate; accumulation; cumulate; cumulation; heap; pile
【医】 accumulation
【经】 accumulate
grid
【化】 grid
在电子工程领域,“累积栅极”(Accumulation Gate)是一种应用于半导体器件中的特殊电极结构,主要用于控制电荷在特定区域内的聚集与传输。以下是其核心概念的详细解释:
定义与结构
累积栅极通常指金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)中处于累积工作模式的栅极结构。当栅极施加的电压极性使多数载流子(如P型半导体中的空穴)在沟道表面聚集时,器件进入“累积状态”,此时栅极电场主导电荷分布。该结构常见于非易失性存储器(如闪存)和传感器设计中。
工作原理
在累积模式下,栅极电压低于平带电压(Flat-Band Voltage),导致半导体表面形成与衬底同类型的载流子富集层。电荷密度随电压变化的关系可表示为: $$ Q{acc} = -C{ox} cdot (V{gb} - V{fb}) $$ 其中$Q{acc}$为累积电荷密度,$C{ox}$为氧化层电容,$V{gb}$为栅极-衬底电压,$V{fb}$为平带电压。
应用场景
相较于反型模式,累积模式下的器件具有更低的功耗和更快的响应速度,尤其在纳米级制程中能有效抑制短沟道效应。
关于“累积栅极”这一术语,目前可查的权威资料中并未直接提及该组合词的定义。但结合“栅极”的基础概念和相关技术背景,可以尝试进行以下分析:
栅极(shān jí)是电子管或多极电子管中的关键电极,通常位于阴极附近,结构呈细丝网或螺旋状。它的核心作用是控制板极电流强度,通过调节栅极电压来改变电子管的放大性能或工作状态。
在电子学中,“累积”可能指以下两种情况:
“累积栅极”可能是以下两种技术场景的表述:
如需更专业的解释,请提供更多技术背景或应用场景。
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