
【医】 radiotantalum
discharge in a jet; fire; insinuate; send out; shoot
【医】 ray
【医】 Ta; tantalum
“射钽”在汉英词典中属于专业术语,其含义需结合材料科学与工程学背景解析。该词由“射”与“钽”组合而成:“射”对应英文“sputtering”或“ion implantation”,指通过高能粒子轰击材料表面的物理沉积技术;“钽”对应元素符号Ta(Tantalum),是一种高熔点、耐腐蚀的稀有金属。
在工业应用中,“射钽”通常指钽薄膜沉积工艺,用于制造高性能电子元件,例如:
权威文献中,中国科学院金属研究所将“射钽”归类为“先进表面工程技术”,强调其在航空航天热障涂层与医疗器械生物兼容镀层中的关键作用。
关于“射钽”一词,目前没有权威资料或常见用法能够明确解释其含义。根据分析和推测,可能存在以下几种情况:
若词语存在拼写错误,可考虑以下相关概念:
某些特殊领域可能使用组合词,例如:
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