
【电】 grid characteristic
grid
【化】 grid
especially; special; spy; unusual; very
【化】 tex
栅极特性(Gate Characteristics)是场效应晶体管(FET)的核心参数集合,指栅极电压($V_G$)对器件导电能力的控制规律及其相关性能指标。以下是其详细解释:
汉英对照
核心物理机制
栅极电压改变半导体表面势垒,调制沟道载流子浓度(电子或空穴),实现电流开关与放大功能。其关系由阈值电压($V_{th}$) 定义——使沟道开始导通的最小栅压。
阈值电压(Threshold Voltage, $V_{th}$)
公式:
$$ V{th} = phi{ms} - frac{Q{ox}}{C{ox}} + 2phi_F pm frac{sqrt{4qvarepsilon_s N_A phiF}}{C{ox}} $$
其中 $phi{ms}$ 为金属-半导体功函数差,$C{ox}$ 为栅氧化层电容,$N_A$ 为衬底掺杂浓度。
跨导(Transconductance, $g_m$)
表征栅压控制漏极电流的效率:
$$g_m = frac{partial I_D}{partial VG} bigg|{V_D=text{const}}$$
单位通常为 mS/μm(毫西门子每微米)。
亚阈值摆幅(Subthreshold Swing, SS)
衡量器件开关速度:
$$SS = frac{kT}{q} ln(10) left(1 + frac{C{dep}}{C{ox}}right)$$
理想值约 60 mV/dec(25°C)。
当 $VG < V{th}$ 时沟道关闭(截止区),$VG > V{th}$ 时导通(线性/饱和区),用于数字电路逻辑门设计。
在饱和区,$I_D$ 与 $V_G$ 呈平方律关系:
$$ID = frac{mu C{ox} W}{2L} (VG - V{th})$$
构成放大器增益基础。
经典教材第6章详解FET栅极物理模型。
关键词:"Gate characteristics MOSFET"(链接)。
行业标准SPICE模型定义栅极参数(链接)。
(注:部分链接需通过学术数据库访问完整内容)
栅极特性是电子器件中控制电流的核心参数,主要涉及结构、功能及电气表现。以下是详细解释:
栅极是电子管或功率半导体器件(如MOSFET/IGBT)中的关键电极,通常由金属细丝构成筛网状或螺旋线结构,位于阴极附近。其核心作用是通过电压调节,控制主电流的通断及强度。
电压控制性
栅极通过施加电压改变电场强度,从而控制阴极电子发射(电子管)或沟道导通(半导体器件)。例如,MOSFET中栅极电压超过阈值时,源漏极间形成导电通道。
电容效应
栅极与器件其他极之间形成非线性电容(如MOSFET的$C{gs}$、$C{gd}$)。充放电过程直接影响开关速度,需驱动器提供足够瞬态电流。
隔离与保护
在功率器件中,栅极需电气隔离设计以防止高压击穿,同时驱动器需集成保护功能(如防静电、过压锁定)。
提示:如需具体器件参数(如IGBT栅极电荷量),可参考厂商数据手册或中的驱动器设计指南。
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