四氮化三锡英文解释翻译、四氮化三锡的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【化】 stannic nitride

分词翻译：

四的英语翻译：

four
【医】 quadri-; Quat; quattuor; tetra-

氮化的英语翻译：

【化】 azotizing
【医】 azotize; nitridation; nitrogenization

三的英语翻译：

three; several; many
【计】 tri
【化】 trimethano-; trimethoxy
【医】 tri-

锡的英语翻译：

stannum; tin
【医】 Sn; stannum; tin

专业解析

四氮化三锡 (sì dàn huà sān xī) 是一种无机化合物，其英文对应名称为Tin(IV) Nitride 或Trigonal Tin(IV) Nitride。以下是其详细解释：

一、术语定义与化学组成

四氮化三锡是由锡（Sn）和氮（N）元素组成的化合物，分子式为Sn₃N₄。其命名遵循中文无机物命名规则：

“四氮化”：表示含4个氮原子；
“三锡”：表示含3个锡原子。
英文名称Tin(IV) Nitride 中的“(IV)” 表明锡元素在此化合物中呈+4价（氧化态），符合其电子排布特性。

二、结构与物化性质

晶体结构
四氮化三锡属于立方晶系或三方晶系，空间群为 Ia-3d（参考高温高压合成研究）。其结构可视为由SnN₄四面体单元构成的三维网络。

物理性质
- 外观：黑色晶体或粉末；
- 密度：约 8.5 g/cm³；
- 稳定性：空气中易氧化，需惰性气氛保存。
化学性质
- 难溶于水，可被强酸分解；
- 高温下（>600°C）可能分解为锡单质和氮气。

三、制备与用途

合成方法
主流制备技术包括：
- 化学气相沉积（CVD）：以SnCl₄和NH₃为前驱体，在衬底表面沉积薄膜；
- 高温固相反应：锡粉与氮气在高压条件下反应。
应用领域
- 半导体材料：作为宽带隙半导体（带隙约 1.7–2.5 eV），适用于光电子器件；
- 硬质涂层：因高硬度（~15 GPa）用于工具表面防护；
- 锂离子电池：潜在负极材料（理论容量＞ 1000 mAh/g）。

四、权威参考资料

化合物数据库
- PubChem: Tin(IV) Nitride（美国国立卫生研究院）
  提供分子式、基础物性及安全数据。
材料科学文献
- Journal of Materials Chemistry（英国皇家化学会）
  刊载Sn₃N₄薄膜的CVD合成与光电性能研究。
结构解析研究
- Acta Crystallographica（国际晶体学联合会）
  收录其高压相晶体结构分析。

五、安全与储存

危险性：粉尘可能刺激呼吸道，操作需佩戴防护设备。

储存条件：密封于干燥惰性气氛（如氩气）中，避免接触湿气或氧化剂。

网络扩展解释

四氮化三锡是一种无机化合物，其英文名称为"stannic nitride"（）。以下从多个角度进行解释：

命名规则解析

"四氮化"表示化合物中含有4个氮原子；
"三锡"表示含有3个锡原子；
根据IUPAC命名法，其系统名称为tin(IV) nitride，反映锡元素在此化合物中呈现+4价态。

化学组成与结构化学式为Sn₃N₄，由3个锡原子与4个氮原子通过离子键结合。可通过以下电荷平衡验证： $$ 3 times (+4) + 4 times (-3) = 0 $$ 锡（Sn）在此呈现+4氧化态，对应"stannic"词根；氮（N）则呈现-3氧化态。
物理化学性质虽然具体性质在现有资料中未明确标注，但根据同类金属氮化物的共性推测：可能具有高硬度、耐高温特性，熔点通常在2000℃以上，可能具有半导体或绝缘特性。
应用领域此类氮化物材料常见于：

陶瓷增强材料
光学镀膜
电子器件保护层
高温涂层技术

注：当前搜索结果仅提供基础命名信息，建议通过《无机化学手册》或科研数据库获取更详尽的物性参数和应用案例。