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planarize是什么意思,planarize的意思翻译、用法、同义词、例句

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常用词典

  • v. 摊平(空间曲线平面化);使……平整,使……平滑

  • 例句

  • Portions of the oxide layer are removed to substantially planarize the trench-filled oxide layer as the first polysilicon layer.

    所述氧化层的部分被移除,以使所述沟槽填充的氧化层作为第一多晶硅层基本平面化。

  • Through a CMP process, portions of the oxide layer are removed to substantially planarize the trench-filled oxide layer as the first polysilicon layer.

    利用一化学机械研磨制程,移除该氧化 物层的部分区域,以使该填满沟槽的氧化物层与该第一多晶硅层 大体上齐平。

  • 专业解析

    Planarize(平面化)是一个工程术语,尤其在半导体制造和微电子领域至关重要。它指的是通过特定的工艺技术,使原本不平坦或不规则的表面变得平坦、光滑的过程。其核心目标是消除材料表面的高低起伏、台阶或凹陷,获得一个高度均匀的平面。

    1. 在半导体制造中的核心应用:化学机械抛光 (CMP): 这是实现晶圆表面Planarize最主流和最关键的工艺。在芯片制造的多层互连结构中,每沉积一层新的材料(如金属钨用于通孔填充、铜用于布线、或绝缘介质)后,表面都会变得不平整。CMP 工艺结合化学腐蚀和机械研磨的作用,选择性地去除高处的材料,最终使整个晶圆表面达到全局平坦化(Global Planarization)。这对于后续光刻工艺(要求极平坦的表面才能精确成像微小图形)和构建多层结构至关重要。没有有效的Planarize,现代高密度、多层互连的集成电路制造将无法实现。 (Lam Research Corporation - "Chemical Mechanical Planarization (CMP) Overview")

    2. 在微电子封装与MEMS中的意义: 在芯片封装领域,Planarize技术同样重要。例如,在晶圆级封装(WLP)或扇出型封装中,需要对再布线层(RDL)、模塑料或光刻胶等材料进行平坦化处理,以确保后续工艺步骤(如光刻、镀铜、植球)的精度和可靠性。在微机电系统(MEMS)制造中,器件结构通常涉及多层薄膜沉积和刻蚀,表面平坦化对于保证器件的性能、可靠性和成品率也非常关键。 (IEEE Transactions on Components, Packaging and Manufacturing Technology - "Planarization Processes for Advanced Packaging")

    3. 技术目标与重要性:

      • 提升光刻精度:平坦的表面是进行高分辨率光刻(特别是浸没式光刻和极紫外光刻)的先决条件,不平的表面会导致聚焦不匀和图形失真。
      • 保证薄膜沉积均匀性:后续沉积的薄膜(如金属、介质)在平坦的基底上才能获得均匀的厚度和良好的附着力。
      • 实现多层互连:现代芯片包含数十层金属互连,每一层都需要平坦化才能可靠地构建下一层。Planarize是摩尔定律得以延续的关键使能技术之一。
      • 改善器件性能和可靠性:平坦的表面可以减少电迁移、短路、断路等失效风险,提高芯片的整体良率和寿命。

    Planarize(平面化)是微电子制造中不可或缺的关键工艺步骤,特指通过各种技术手段(尤其是CMP)将非平面表面处理成高度平坦的过程。它解决了多层结构制造中由表面起伏带来的技术难题,是确保先进半导体器件高性能、高密度、高可靠性的基础。

    网络扩展资料

    "Planarize"(动词)指通过特定技术或工艺使物体表面变得平坦或平面化的过程,常见于以下专业领域:

    1. 半导体制造
      通过化学机械抛光(CMP)等技术消除晶圆表面的凹凸不平,确保后续电路层的精准堆叠(如芯片制造中多层金属互连的平整处理)。

    2. 3D建模与图形学
      将三维结构投影或简化成二维平面,用于地图绘制或计算机图形渲染。

    3. 材料科学
      在涂层或薄膜工艺中,通过沉积后处理(如退火)减少材料表面的粗糙度。

    该词由"planar"(平面)加动词后缀"-ize"构成,字面意为“使平面化”。由于缺乏具体上下文,建议结合领域术语进一步确认其精确含义。

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