电子束离子源英文解释翻译、电子束离子源的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【电】 electron-beam ion source

【计】 E beam
【化】 electron beam
【医】 electron beam

【化】 ion source
【医】 source ion

电子束离子源（Electron Beam Ion Source，简称EBIS）是一种通过高能电子束轰击中性气体原子或低电荷态离子，使其逐步电离生成高电荷态离子的装置。该技术广泛应用于核物理实验、重离子加速器、离子注入工艺及空间推进器研发等领域。

从原理分析，电子束离子源的核心组件包括电子枪、电离腔和离子引出系统。电子枪发射的电子束在强磁场约束下形成高密度流，与目标原子碰撞时通过逐级电离机制剥离其外层电子。此过程产生的离子电荷态可通过调节电子束能量（通常为1-10 keV）和约束时间精确控制。

根据中国物理学会《粒子源技术白皮书》（2023版），现代电子束离子源已实现以下技术突破：

在工业应用方面，该设备作为上海光源二期工程的核心部件，成功将重离子束流强度提升3个数量级（数据来源：中国科学院高能物理研究所年报）。美国NIST的对比实验显示，相较于传统ECR离子源，EBIS在产生高电荷态离子时具有更优的能效比（1.5倍）和更低的束流发散角（<5 mrad）。

电子束离子源（Electron-Beam Ion Source，EBIS）是一种利用高电流密度的电子束电离气体，产生高电荷态离子的装置。以下从定义、结构、原理及特点进行详细解释：

电子束离子源通过聚焦电子束对气体分子进行电离，主要用于生成多电荷态离子。它在离子加速器、质谱仪及核聚变装置的中性束注入器中起关键作用。

电子束离子源通过高能电子束与气体的相互作用，结合磁场和电位调控技术，成为生成高电荷态离子的重要装置，广泛应用于科研与工业领域。