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etching machine是什么意思，etching machine的意思翻译、用法、同义词、例句

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常用词典

  • 蚀刻机；腐蚀制版机

    • 例句

  • Laser etching machine is a high-tech business card printing and membership card.

    激光光刻机是一种矮科技的 制卡和 会员卡制作摆设。

  • SCD developed the first vacuum etching machine in China, with vacuum flood bar in the etching chamber; no pool effect; etching factor is up to 4.0.

    SCD开发了中国国内第一台真空蚀刻机，蚀刻室内加装真空水刀，从根本上解决了水池效应，蚀刻因子提高到4。0以上。

  • Etching machine in normal operation, the first I put a feeding trial with engraved stainless steel plate, it will slow conveyor belt into the machine.

    蚀刻机运转正常后，先在入料口放一块试刻用的不锈钢板，传送带会把它缓慢的送入机器内部。

  • How good sign production process, test swing carved this etching machine precision variable speed conveyor belt can, scouring the length of time can be adjusted here.

    酒店标牌制作的工艺如何好，试刻这台精密摇摆蚀刻机传送带可以无级调速，冲刷时间的长短可以在这里进行调整。

  • The optical system, mechanical system, electrical system and software system are stu***d in the mold laser etching machine, and the mold laser etching machine is developed with the practical value.

    对模具激光蚀刻机的光学系统、机械系统、电气系统及软件系统进行了研究，研发出具有实用价值的模具激光蚀刻机。

    • 专业解析

    蚀刻机（Etching Machine） 是一种通过化学或物理方法在材料表面进行选择性去除，从而形成精密图案或结构的工业设备。它广泛应用于半导体制造、印刷电路板（PCB）生产、微机电系统（MEMS）等领域，是现代微电子工业的核心装备之一。

    一、核心工作原理

    蚀刻机通过以下两种主要方式实现材料去除：

    1. 湿法蚀刻（Wet Etching）

      利用化学溶液（如酸、碱）与材料发生反应，溶解暴露区域。例如，在硅晶圆上，氢氟酸（HF）可蚀刻二氧化硅层，而磷酸用于蚀刻氮化硅。该方法成本低但精度有限，易产生侧向钻蚀（undercut）。

    2. 干法蚀刻（Dry Etching）

      通过等离子体（如反应离子蚀刻，RIE）或气相化学物质（如气相蚀刻）实现高精度图案转移。等离子体中的活性离子轰击材料表面，实现各向异性蚀刻（垂直方向精度高），适用于纳米级集成电路制造。

    二、关键应用领域

    1. 半导体制造

      在芯片生产中，蚀刻机用于将光刻胶上的电路图案转移到硅片、金属或介质层上。例如，台积电（TSMC）的5nm制程需使用极紫外光刻（EUV）配合高精度等离子蚀刻机。

    2. 印刷电路板（PCB）加工

      蚀刻铜箔形成导电线路，常用氯化铁（FeCl₃）或酸性氯化铜（CuCl₂）溶液去除多余铜层，保留设计电路。

    3. 微机电系统（MEMS）

      通过深反应离子蚀刻（DRIE）技术制造微传感器、执行器等三维结构，例如陀螺仪和加速度计。

    三、技术分类与代表设备

    类型 技术特点 典型设备厂商
    等离子蚀刻机 高精度、各向异性，适用于纳米级制程 应用材料（Applied Materials）、泛林集团（Lam Research）
    湿法蚀刻槽 批量处理、成本低，适合PCB量产 德国Atotech、日本荏原（Ebara）
    激光蚀刻机 非接触式，用于陶瓷、玻璃等硬质材料 通快（TRUMPF）、相干（Coherent）

    四、权威参考来源

    1. 半导体蚀刻技术原理

      应用材料公司（Applied Materials）官网对等离子蚀刻机的技术说明：Applied Materials - Etch Systems

      注：全球最大半导体设备商的技术文档，具行业权威性。

    2. PCB蚀刻工艺指南

      美国IPC协会（电子行业标准制定机构）发布的IPC-2221B设计规范：IPC Standards for PCB Manufacturing

      注：IPC标准被全球电子制造业广泛采用。

    3. MEMS蚀刻技术研究

      加州大学伯克利分校微纳制造实验室发布的DRIE技术白皮书：UC Berkeley MEMS Fabrication Guide

      注：学术机构的一手研究资料，体现技术前沿性。

    五、与其他设备的区别

    网络扩展资料

    "etching machine" 的解释可分为技术应用和艺术领域两个维度：

    一、基础定义 "etching machine" 指通过化学或物理手段在材料表面进行精密蚀刻的设备。其核心功能是通过移除材料表层形成图案或结构，常见于工业制造和艺术创作。

    二、工业技术领域（半导体方向） 主要分为两类（）：

    1. 湿刻蚀机

      • 原理：使用化学溶液（如氢氟酸）腐蚀基材
      • 特点：成本低、操作简单，但精度较低（微米级）
      • 应用：早期半导体制造、简单电路板加工

    2. 干刻蚀机

      • 原理：通过等离子体或离子束进行物理/化学蚀刻
      • 特点：纳米级精度，适用于复杂集成电路
      • 代表技术：反应离子刻蚀（RIE）、深硅刻蚀（DRIE）

    三、艺术创作领域 在版画制作中，特指通过酸液腐蚀金属板进行艺术创作的设备。艺术家使用针笔在涂有防腐层的金属板上刻画图案，再通过酸蚀形成凹版用于印刷。

    四、词源解析 单词"etching"源于荷兰语"etsen"，原意为"咬食"，形象描述酸液腐蚀金属的过程。发音为英式[ˈetʃɪŋ]、美式[ˈɛtʃɪŋ]。

    扩展说明：在柔性基材（如PI薄膜）加工中，化学蚀刻机还可实现交叉影线等特殊纹理制作。如需了解具体设备型号或更专业的工艺参数，建议查阅半导体制造技术手册。

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