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epitaxy是什么意思,epitaxy的意思翻译、用法、同义词、例句

输入单词

epitaxy英标

英:/''epɪtæksɪ/ 美:/'ˈepɪˌtæksi/

词性

复数 epitaxies

常用词典

  • n. [电子] 外延;[晶体] 取向附生,外延附生

  • 例句

  • Epitaxy of strained Si on the obtained SGOI substrate.

    在获得的SGOI衬底材料上生长高质量应变硅材料。

  • Single Crystal, Substrate, Optico-Electronics, Film, Epitaxy.

    单晶,衬底,光电子,薄膜,外延。

  • The higher value is comparable to those obtained in CVD epitaxy.

    这个高的数值可以和从化学气相淀积外延得到的数值相比拟。

  • All the procedure for epitaxy growth was controlled by a computer.

    外延生长工艺过程由计算机控制。

  • The environmental morals have their intension, the epitaxy and main content.

    环境道德有其内涵、外延和主要内容。

  • 专业解析

    外延(Epitaxy) 是一种在单晶衬底(Substrate)表面,沿特定晶向有序生长一层或多层单晶薄膜的材料制备技术。该术语源于希腊语“epi”(意为“之上”)和“taxis”(意为“排列”),形象描述了原子在衬底晶体结构引导下进行定向排列的过程。外延生长的薄膜称为外延层(Epitaxial Layer),其晶体结构、晶格取向与衬底高度一致或存在特定关联。

    核心原理与技术分类

    1. 晶格匹配与失配

      外延生长的关键在于衬底与外延层之间的晶格匹配。理想情况下,两者晶格常数相近,外延层原子可无缝延续衬底的晶体结构(同质外延)。若晶格常数存在差异(晶格失配),则可能产生应力或位错,需通过应变层或缓冲层等技术管理失配应力(异质外延)。

    2. 主要技术方法

      • 气相外延(VPE):通过气相化学反应在衬底表面沉积单晶层,如硅外延常用氢还原三氯硅烷(SiHCl₃)。
      • 分子束外延(MBE):在超高真空环境中,将元素或化合物以分子束形式喷射到衬底表面,实现原子级精度控制。
      • 金属有机化学气相沉积(MOCVD):利用金属有机化合物前驱体在高温下分解反应,广泛用于Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体(如GaAs、InP)的外延生长。

    应用领域与重要性

    技术挑战与发展

    外延工艺需精确控制温度、压力、气流等参数,以抑制缺陷并保证薄膜均匀性。当前研究聚焦于大尺寸晶圆外延、低维材料(如二维半导体)外延生长及人工智能辅助的工艺优化,以支撑下一代电子与光电子器件需求。


    参考资料来源:

    1. 分子束外延技术原理与应用 - 美国物理联合会期刊
    2. MOCVD在Ⅲ-Ⅴ族半导体外延中的进展 - 材料科学期刊
    3. 半导体外延层对器件性能的影响 - IEEE电子器件汇刊
    4. 硅基氮化镓异质外延技术综述 - 应用物理快报

    网络扩展资料

    Epitaxy(外延)是晶体学与电子工程领域的重要术语,指在单晶基底上定向生长一层新单晶材料的过程,且新生晶体结构与基底保持一致。以下是详细解释:


    核心定义


    主要技术方法

    1. 分子束外延(MBE):在超高真空环境中,用分子束逐层沉积原子。
    2. 液相外延(LPE):通过溶液在基底表面结晶生长。
    3. 气相外延(VPE):利用气体化学反应在基底上沉积晶体层。

    应用领域


    例句

    “移除磊晶基板后,外延层可直接用于器件加工。”


    如需进一步了解具体技术或应用案例,可参考高权威性来源如搜狗百科或专业文献。

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