
英:/''epɪtæksɪ/ 美:/'ˈepɪˌtæksi/
复数 epitaxies
n. [电子] 外延;[晶体] 取向附生,外延附生
Epitaxy of strained Si on the obtained SGOI substrate.
在获得的SGOI衬底材料上生长高质量应变硅材料。
Single Crystal, Substrate, Optico-Electronics, Film, Epitaxy.
单晶,衬底,光电子,薄膜,外延。
The higher value is comparable to those obtained in CVD epitaxy.
这个高的数值可以和从化学气相淀积外延得到的数值相比拟。
All the procedure for epitaxy growth was controlled by a computer.
外延生长工艺过程由计算机控制。
The environmental morals have their intension, the epitaxy and main content.
环境道德有其内涵、外延和主要内容。
外延(Epitaxy) 是一种在单晶衬底(Substrate)表面,沿特定晶向有序生长一层或多层单晶薄膜的材料制备技术。该术语源于希腊语“epi”(意为“之上”)和“taxis”(意为“排列”),形象描述了原子在衬底晶体结构引导下进行定向排列的过程。外延生长的薄膜称为外延层(Epitaxial Layer),其晶体结构、晶格取向与衬底高度一致或存在特定关联。
晶格匹配与失配
外延生长的关键在于衬底与外延层之间的晶格匹配。理想情况下,两者晶格常数相近,外延层原子可无缝延续衬底的晶体结构(同质外延)。若晶格常数存在差异(晶格失配),则可能产生应力或位错,需通过应变层或缓冲层等技术管理失配应力(异质外延)。
主要技术方法
外延工艺需精确控制温度、压力、气流等参数,以抑制缺陷并保证薄膜均匀性。当前研究聚焦于大尺寸晶圆外延、低维材料(如二维半导体)外延生长及人工智能辅助的工艺优化,以支撑下一代电子与光电子器件需求。
参考资料来源:
Epitaxy(外延)是晶体学与电子工程领域的重要术语,指在单晶基底上定向生长一层新单晶材料的过程,且新生晶体结构与基底保持一致。以下是详细解释:
“移除磊晶基板后,外延层可直接用于器件加工。”
如需进一步了解具体技术或应用案例,可参考高权威性来源如搜狗百科或专业文献。
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