
英:/''epɪtæksɪ/ 美:/'ˈepɪˌtæksi/
複數 epitaxies
n. [電子] 外延;[晶體] 取向附生,外延附生
Epitaxy of strained Si on the obtained SGOI substrate.
在獲得的SGOI襯底材料上生長高質量應變矽材料。
Single Crystal, Substrate, Optico-Electronics, Film, Epitaxy.
單晶,襯底,光電子,薄膜,外延。
The higher value is comparable to those obtained in CVD epitaxy.
這個高的數值可以和從化學氣相澱積外延得到的數值相比拟。
All the procedure for epitaxy growth was controlled by a computer.
外延生長工藝過程由計算機控制。
The environmental morals have their intension, the epitaxy and main content.
環境道德有其内涵、外延和主要内容。
外延(Epitaxy) 是一種在單晶襯底(Substrate)表面,沿特定晶向有序生長一層或多層單晶薄膜的材料制備技術。該術語源于希臘語“epi”(意為“之上”)和“taxis”(意為“排列”),形象描述了原子在襯底晶體結構引導下進行定向排列的過程。外延生長的薄膜稱為外延層(Epitaxial Layer),其晶體結構、晶格取向與襯底高度一緻或存在特定關聯。
晶格匹配與失配
外延生長的關鍵在于襯底與外延層之間的晶格匹配。理想情況下,兩者晶格常數相近,外延層原子可無縫延續襯底的晶體結構(同質外延)。若晶格常數存在差異(晶格失配),則可能産生應力或位錯,需通過應變層或緩沖層等技術管理失配應力(異質外延)。
主要技術方法
外延工藝需精确控制溫度、壓力、氣流等參數,以抑制缺陷并保證薄膜均勻性。當前研究聚焦于大尺寸晶圓外延、低維材料(如二維半導體)外延生長及人工智能輔助的工藝優化,以支撐下一代電子與光電子器件需求。
參考資料來源:
Epitaxy(外延)是晶體學與電子工程領域的重要術語,指在單晶基底上定向生長一層新單晶材料的過程,且新生晶體結構與基底保持一緻。以下是詳細解釋:
“移除磊晶基闆後,外延層可直接用于器件加工。”
如需進一步了解具體技術或應用案例,可參考高權威性來源如搜狗百科或專業文獻。
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