高壓輝光放電離子源英文解釋翻譯、高壓輝光放電離子源的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【化】 high-voltage glow-discharge ion source

分詞翻譯：

高壓的英語翻譯：

high-handed; high pressure; high voltage
【醫】 high tension; hyperpiesia; hyperpiesis

輝光放電的英語翻譯：

【化】 glow discharge

離子源的英語翻譯：

【化】 ion source
【醫】 source ion

專業解析

高壓輝光放電離子源（High-Voltage Glow Discharge Ion Source）是一種通過高壓電場激發氣體介質産生穩定輝光放電，從而電離氣體分子或原子形成離子束的裝置。其核心原理基于氣體放電物理：當兩極間施加數千伏高壓時，殘餘氣體分子被電離形成等離子體，電子在電場加速下與中性粒子碰撞，引發鍊式電離反應，形成自持放電現象。

該技術的關鍵參數包括放電電壓（通常為1-5 kV）、氣體壓強（10⁻²-10 Pa量級）以及電極幾何結構。根據《等離子體源技術手冊》記載，其離子束流密度可達10⁻⁶-10⁻³ A/cm²，適用于表面分析儀器的離子轟擊清洗。相較于熱陰極離子源，高壓輝光放電結構無需加熱組件，具有啟動快速、維護簡便的優勢，因此在X射線光電子能譜（XPS）和二次離子質譜（SIMS）等超高真空系統中廣泛應用。

現代改進型裝置采用脈沖調制技術，通過控制放電占空比（通常為1-10%），可将工作壓強擴展至10⁻⁴ Pa範圍，同時減少樣品熱損傷風險。該技術細節在美國真空學會期刊《Journal of Vacuum Science & Technology A》中有詳細論述。

網絡擴展解釋

輝光放電離子源是輝光放電質譜（GDMS）的核心組件，其核心原理是通過高壓電場激發惰性氣體産生等離子體，實現樣品的濺射和電離。以下是具體解析：

1.基本結構與工作環境

低氣壓環境：通常在10-100 Pa的氩氣氛圍中運行，屬于低壓放電。
高電壓驅動：施加上千伏特直流/射頻/脈沖電壓，形成強電場加速帶電粒子。

2.工作原理

濺射與電離分離：高能惰性氣體離子（如Ar⁺）撞擊樣品表面（陰極），濺射出樣品原子；原子擴散至等離子體區域（負輝區）進一步電離。
低基體效應：濺射（陰極暗區）和電離（負輝區）分區域進行，減少基體幹擾。

3.等離子體特性

成分：包含電子、離子（Ar⁺、樣品離子）及中性粒子。
發光機制：激發态粒子返回基态時釋放光能，顔色由氣體種類決定（如氖發紅光）。

4.應用領域

材料分析：GDMS用于高純度金屬、半導體等固體樣品的痕量元素檢測。
工業與科研：表面改性、污水處理、激光器制造等。

5.供電方式

包括直流（DC）、射頻（RF）和脈沖三種模式，適應不同樣品類型（如導電/非導電材料）。

高壓輝光放電離子源通過高電壓驅動低氣壓氣體放電，實現高效濺射和電離，兼具靈敏度高、基體效應低的優勢，是固體直接分析的關鍵技術。