
electrodeposit
electricity
【計】 telewriting
【化】 electricity
【醫】 Elec.; electricity; electro-; galvano-
dreg; precipitate; sediment; settling
【化】 deposit matter; sludge
【醫】 magistery; precipitum
電沉澱物(electrodeposit)指通過電解過程在電極表面沉積形成的固态物質。這一過程稱為電沉積(electrodeposition),屬于電化學反應的範疇。當直流電通過含金屬離子的電解質溶液時,溶液中的陽離子在陰極(負極)獲得電子,還原為金屬原子并沉積在電極表面,形成緻密或疏松的固體層。該術語在工業與科研中廣泛應用,具體含義如下:
電化學沉積原理
在電解池中,陰極發生還原反應:金屬離子(如 (ce{Cu+}))接受電子後被還原為金屬原子((ce{Cu})),并逐步堆積成宏觀可見的沉積層。例如銅電鍍的反應式為:
$$ ce{Cu+ (aq) + 2e^- -> Cu (s)} $$ 此過程需控制電流密度、溫度及電解質濃度等參數以調控沉積物結構。
工業應用場景
“電沉積”強調動态沉積過程,而“電沉澱物”指沉積後的固态産物,二者常混用,但後者更側重結果形态。
化學沉澱依賴化學反應生成不溶物(如 (ce{BaSO4})),無需通電;電沉澱物則需外加電流驅動還原反應。
電沉積是“通過電解在電極表面形成附着層的過程”,沉積物包括金屬、合金或導電聚合物(IUPAC術語數據庫)。
電沉澱物的微觀結構(如晶粒尺寸、孔隙率)直接影響其力學與電學性能,需通過掃描電鏡(SEM)表征(Bard & Faulkner, Electrochemical Methods)。
在表面處理術語中,“電沉積鍍層”明确指代電解形成的金屬覆蓋層(國家标準全文公開系統)。
注:以上内容綜合電化學基礎理論、工業實踐及國際标準,涵蓋術語的漢英對照、形成機制與權威定義。進一步技術細節可參考IUPAC電化學術語指南或相關行業标準文件。
“電沉澱物”這一表述可能存在術語混淆,正确的相關概念應為電沉積物或電化學沉積物。以下是詳細解釋:
電沉積物是指通過電化學沉積(電沉積)過程在電極表面形成的金屬、合金或化合物層。該過程需在電場作用下進行,金屬離子(如Cu²⁺、Ni²⁺)在陰極獲得電子被還原,形成固體沉積物附着于基底表面。
關鍵特征:
普通沉澱物是溶液中因化學反應或溶解度變化析出的固體(如AgCl沉澱),無需電場作用。兩者對比如下:
特征 | 電沉積物 | 普通沉澱物 |
---|---|---|
形成機制 | 電化學還原反應(需電流) | 化學沉澱或溶解度變化 |
控制因素 | 電流密度、電解質濃度、溫度 | 溶液濃度、pH、溫度 |
形态與結構 | 緻密、均勻的鍍層或晶體 | 松散顆粒或絮狀物 |
典型應用 | 電鍍、電子器件制造 | 污水處理、化學分離 |
以電鍍銅為例:
“電沉澱物”可能是“電沉積物”的誤寫,後者特指電化學沉積産物。若需進一步了解具體應用場景(如工業電鍍或納米材料制備),可參考電化學領域的專業文獻。
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