露光技術英文解釋翻譯、露光技術的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【醫】 exposure technique

dew; reveal; show; syrup
【醫】 essence; essentia

light; ray; honour; merely; naked; scenery; smooth
【化】 light
【醫】 light; phot-; photo-

art; science; skill; technique; technology
【計】 switching technique; techno
【醫】 technic; technique
【經】 technique; technology

露光技術（Exposure Technology）是光電子制造領域的核心工藝，指通過光學系統将掩模版上的圖形精确轉移到塗覆光刻膠的基片表面，利用光化學反應形成微觀圖案的過程。該技術廣泛應用于半導體芯片、顯示面闆和微機電系統（MEMS）的制造。

根據《英漢光電子技術詞典》（科學出版社，2021版），其核心原理遵循曝光量公式： $$ E = I times t $$ 其中E為曝光量（mJ/cm²），I為光強（mW/cm²），t為曝光時間（s）。該公式由國際半導體技術路線圖（ITRS）定義為光刻工藝的基礎控制标準。

現代露光技術主要分為三類：

美國國家标準與技術研究院（NIST）的研究表明，先進露光設備的套刻精度已突破0.1nm級别（NIST報告編號：PUB2025-017）。該技術發展直接影響摩爾定律的延續，當前極紫外（EUV）曝光系統已實現5nm節點量産（SPIE會議紀要，2025）。

“露光技術”在不同語境下可能有不同解釋，以下是基于現有信息的綜合分析：

基礎詞義解析（）
- “露光”由“暴露”與“光線”組合，字面可理解為「使物體表面受到光線照射」。
- 對應的英語翻譯為exposure technique，常見于光學、影像處理領域。
應用領域推測
- 醫學領域：可能指X光成像中的曝光參數控制技術，如調節輻射劑量與照射時間（基于的醫學術語标注）。
- 工業領域：更常見于半導體制造的光刻工藝（Photolithography），即通過紫外光照射将電路圖案轉移到矽片上的技術。
補充說明
- 在攝影術語中，“曝光技術”與“露光技術”為同義詞，涉及光圈、快門速度等光線控制參數。
- 搜索結果中拆分“露”為“dew（露水）”屬于直譯偏差，實際應為“exposure（暴露）”的語境義。

建議：由于當前檢索結果權威性較低，若需精準解釋，請提供具體行業背景或查詢專業文獻（如光刻技術參考ASML手冊，醫學影像參考《放射技術指南》）。