
【化】 chemical mechanical pulping
chemistry
【化】 chemistry
【醫】 chemistry; chemo-; spagyric medicine
【化】 mechanical process
【醫】 mechanical method
化學機械法(Chemical Mechanical Planarization,CMP)是一種廣泛應用于半導體制造和精密材料加工的表面處理技術。該技術結合化學反應與機械研磨作用,實現材料表面的納米級平整化。其核心原理為:通過化學腐蝕劑軟化材料表面,再以機械抛光去除反應産物,最終達到高精度表面處理效果。
從漢英對照角度解析:
術語定義
中文“化學機械法”對應英文“Chemical Mechanical Planarization”(SEMI International Standards),在集成電路制造中特指晶圓表面平坦化工藝。該術語在1990年代被IBM工程師首次标準化(IEEE Xplore Digital Library)。
技術構成
包含化學組分(如二氧化矽抛光液)與機械裝置(旋轉抛光頭)的協同作用。美國材料試驗協會(ASTM)标準F1094明确指出,該方法需控制壓力(3-7psi)、轉速(20-150rpm)等參數(ASM Handbook Vol.23)。
物理方程
材料去除率遵循Preston方程:
$$ MRR = K_p cdot P cdot V $$
其中$K_p$為工藝常數,$P$為施加壓力,$V$為相對速度(Journal of The Electrochemical Society)。
應用領域
主要應用于3D NAND閃存制造中的多層堆疊結構平坦化(Applied Materials技術白皮書),以及銅互連工藝中的阻擋層抛光(Lam Research工藝指南)。
權威釋義
《牛津材料科學詞典》将其定義為“通過化學活性漿料與機械摩擦的協同作用,實現亞微米級表面整平的混合加工技術”,該定義被劍橋大學微電子研究中心引用作為行業基準。
“化學機械法”是一個跨領域的術語,在不同應用場景中有不同含義,以下是主要解釋方向:
指化學預處理與機械處理結合的制漿工藝。通過化學藥劑(如亞硫酸鹽)對木片/草片進行輕度蒸煮,軟化木質素結構後,再通過機械磨解分離纖維。其特點包括:
特指齲齒祛腐技術,通過化學凝膠軟化腐質後,配合手工器械物理清除。與傳統鑽頭相比具有微創優勢。主要成分包含:
通過機械能(研磨、沖擊等)誘發物質表面活化,促進其與周圍介質發生物理化學反應。常用于粉體表面改性(但該網頁權威性較低,需謹慎參考)。
英文表述需區分領域:
建議根據具體應用場景選擇解釋方向,如需深度技術細節可查閱《中國造紙學報》或《口腔材料器械雜志》等專業文獻。
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