
【計】 peephole mask
【化】 peephole; spy hole
【計】 masking
窺孔掩模(Peephole Mask)是集成電路制造領域中的關鍵工藝裝備,指在光刻工序中用于選擇性遮擋光線的精密模闆。該術語由"窺孔"(peephole)與"掩模"(mask)複合構成,其中"窺孔"特指模闆上的微米級透光孔陣列,"掩模"則指通過遮擋實現圖形轉移的功能特性。
在半導體制造過程中,窺孔掩模通過以下兩種核心機制發揮作用:
該技術主要應用于動态隨機存儲器(DRAM)的三維結構刻蝕,以及FinFET晶體管的鳍片成形。加州大學伯克利分校微納制造實驗室的研究表明,現代窺孔掩模可包含超過10億個調控單元,支撐5納米以下制程的産業化應用。
行業标準規範參照國際半導體技術路線圖(ITRS)中關于光學臨近修正(OPC)的技術細則,其材料多采用熔融石英基闆鍍鉻膜層結構,熱膨脹系數需控制在0.05ppm/℃以内(SEMI标準F32-1109)。
“窺孔掩模”是一個組合詞,需拆解分析其含義:
窺孔
根據、、等來源,窺孔指一種透明的長方形窗口或嵌塊,用于觀察密閉空間内的物質或過程(如工業爐、檢測設備)。其核心功能是在封閉環境中提供可視化通道,例如高溫爐的觀察口或光學儀器的檢測窗。
掩模
在技術領域(如半導體、光學工程),掩模(Mask)通常指帶有特定圖案的模闆,用于遮擋或選擇性地透過光線、粒子等。例如光刻掩模用于芯片制造的圖案轉印。
組合含義推測
“窺孔掩模”可能指一種兼具觀察窗口與遮擋功能的裝置,常見于以下場景:
補充說明
該詞暫無标準化定義,具體含義需結合上下文。若涉及技術文檔,建議進一步查閱相關領域資料,或聯繫使用該術語的具體設備說明。
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